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龍圖騰網(wǎng)獲悉昆山晟成光電科技有限公司申請的專利一種動態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120291025B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510753384.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/24；該發(fā)明授權(quán)一種動態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法是由李帥;楊星;王強;姜宇康;周文彬;祖國良設(shè)計研發(fā)完成，并于2025-06-06向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種動態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種動態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法，蒸鍍系統(tǒng)包括真空腔體、蒸發(fā)源與基片載板，真空腔體包括由下至上依次連通的蒸發(fā)區(qū)、過渡區(qū)與沉積區(qū)，蒸發(fā)區(qū)與過渡區(qū)之間設(shè)有第一隔板，第一隔板的中心通氣并設(shè)有第一隔斷裝置，過渡區(qū)與沉積區(qū)之間設(shè)有第二隔板，第二隔板的中心通氣并設(shè)有第二隔斷裝置，蒸發(fā)區(qū)的中部設(shè)有蒸發(fā)源，過渡區(qū)外圍環(huán)繞布置有冷卻腔，冷卻腔內(nèi)設(shè)有冷凝環(huán)與深冷阱，沉積區(qū)的上部中心設(shè)有基片載板。蒸鍍方法步驟包括建立動態(tài)壓力分層真空環(huán)境、預(yù)熱和蒸鍍。本蒸鍍系統(tǒng)能夠動態(tài)壓力分層腔體采用帶電微孔陣列的電磁屏障，通過壓力梯度設(shè)計，實時隔離和調(diào)控蒸發(fā)物質(zhì)和副產(chǎn)物，壓力波動低，鍍膜均勻性高，材料利用率高。

本發(fā)明授權(quán)一種動態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種動態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于：包括真空腔體、蒸發(fā)源與基片載板，所述真空腔體包括由下至上依次連通的蒸發(fā)區(qū)、過渡區(qū)與沉積區(qū)，所述蒸發(fā)區(qū)與所述過渡區(qū)之間設(shè)有第一隔板，所述第一隔板的中心通氣并設(shè)有第一隔斷裝置，所述過渡區(qū)與所述沉積區(qū)之間設(shè)有第二隔板，所述第二隔板的中心通氣并設(shè)有第二隔斷裝置，所述蒸發(fā)區(qū)的中部設(shè)有蒸發(fā)源，所述過渡區(qū)外圍環(huán)繞布置有冷卻腔，所述冷卻腔內(nèi)設(shè)有為所述過渡區(qū)降溫的冷凝環(huán)與為所述沉積區(qū)降溫的深冷阱，所述沉積區(qū)的上部中心設(shè)有基片載板，所述蒸發(fā)區(qū)的側(cè)壁設(shè)有連接第一抽氣泵的第一抽氣口，所述過渡區(qū)的側(cè)壁設(shè)有連接第二抽氣泵的第二抽氣口，所述沉積區(qū)的側(cè)壁設(shè)有連接第三抽氣泵的第三抽氣口，所述第一抽氣泵、所述第二抽氣泵與所述第三抽氣泵的吸力依次增加；所述第一隔斷裝置與所述第二隔斷裝置都為電磁屏障，所述電磁屏障由厚度2~5mm的多孔鉬基板制成，所述多孔鉬基板上分布有直徑0.1~1mm的微孔陣列，孔隙率為20%~80%。

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