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龍圖騰網獲悉紐富來科技股份有限公司申請的專利帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114981923B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180010020.5，技術領域涉及：H01L21/027；該發明授權帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置是由野村春之;中山貴仁設計研發完成，并于2021-04-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在說明書摘要公布了：高精度地校正因帶電現象而引起的位置偏移。帶電粒子束描繪方法具備：將上述基板的描繪區域假想分割為規定的網格尺寸，計算表示每個網格區域的圖案的配置比例的圖案密度分布的工序；使用上述圖案密度分布計算劑量分布的工序；使用上述圖案密度分布以及上述劑量分布計算照射量分布的工序；計算覆蓋帶電粒子量分布的工序；計算由直接帶電產生的帶電量分布以及由覆蓋帶電產生的帶電量分布的工序；計算基于由上述直接帶電產生的帶電量分布以及由上述覆蓋帶電產生的帶電量分布的描繪位置的位置偏移量的工序；使用上述位置偏移量校正照射位置的工序；以及向上述校正后的照射位置照射上述帶電粒子束，以使上述基板的表面的電位比電位規定部件的下表面的電位高的工序。

本發明授權帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在權利要求書中公布了：1.一種帶電粒子束描繪方法，通過偏轉器使帶電粒子束偏轉，通過物鏡對焦，在工作臺上的基板描繪圖案，具備： 將上述基板的描繪區域假想分割為規定的網格尺寸，計算表示每個網格區域的上述圖案的配置比例的圖案密度分布的工序； 使用上述圖案密度分布計算表示每個網格區域的劑量的劑量分布的工序； 使用上述圖案密度分布以及上述劑量分布計算向上述基板照射的上述帶電粒子束的照射量分布的工序； 通過對覆蓋帶電粒子的分布函數和上述照射量分布進行卷積積分來計算覆蓋帶電粒子量分布的工序； 使用上述圖案密度分布、上述劑量分布以及上述照射量分布計算由直接帶電產生的帶電量分布，并使用上述覆蓋帶電粒子量分布計算由覆蓋帶電產生的帶電量分布的工序； 計算基于由上述直接帶電產生的帶電量分布以及由上述覆蓋帶電產生的帶電量分布的描繪位置的位置偏移量的工序； 使用上述位置偏移量校正照射位置的工序；以及 以使上述基板的表面的電位比配置在與上述基板對置的位置的電位規定部件的下表面的電位高的方式向上述基板和上述電位規定部件的至少任一方施加基于電壓與從描繪圖案的設計位置的位置偏移量之間的關系預先求出的規定的電壓而形成電場，并向上述校正后的照射位置照射上述帶電粒子束的工序。

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