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龍圖騰網獲悉中國科學院長春光學精密機械與物理研究所申請的專利一種光學元件面形檢測方法及系統、設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120403490B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510930807.3，技術領域涉及：G01B11/24；該發明授權一種光學元件面形檢測方法及系統、設備是由胡海翔;張學軍;田明森;李明茁設計研發完成，并于2025-07-07向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種光學元件面形檢測方法及系統、設備在說明書摘要公布了：本發明公開了一種光學元件面形檢測方法及系統、設備，涉及光學檢測技術領域，用于解決現有面形檢測方法存在波前退化導致儀器傳遞函數衰減而影響面形檢測的問題。本發明將被檢測元件的被檢測面光場分解為多個微元，獲得被檢測面光場的微元通過干涉檢測裝置后的理想成像位置，并建立被檢測面光場的微元通過干涉檢測裝置后傳播至成像面的波前退化模型，并根據波前退化模型建立描述成像面的像元接收的光場與被檢測面光場的所述多個微元通過干涉檢測裝置后的未退化波前的關系的表達式，進而根據第一面形結果和表達式，求解未退化波前，根據所述多個微元的未退化波前獲得被檢測面的第二面形結果，本發明能夠更準確地表征被檢測元件的面形信息。

本發明授權一種光學元件面形檢測方法及系統、設備在權利要求書中公布了：1.一種光學元件面形檢測方法，其特征在于，應用干涉檢測裝置，所述干涉檢測裝置和被檢測元件相對設置，所述干涉檢測裝置用于獲取所述被檢測元件的被檢測面光場以獲得被檢測面的第一面形結果； 所述光學元件面形檢測方法包括： 將所述被檢測元件的所述被檢測面光場分解為多個微元，獲得在所述被檢測元件的坐標系下所述被檢測面光場的所述微元的位置； 基于所述被檢測面光場的所述微元的位置，獲得所述被檢測面光場的所述微元通過所述干涉檢測裝置后的理想成像位置； 根據所述被檢測面光場的所述微元的所述理想成像位置，建立所述被檢測面光場的所述微元的波前退化模型，所述波前退化模型描述所述被檢測面光場的所述微元通過所述干涉檢測裝置后，從所述理想成像位置傳播至所述干涉檢測裝置的成像面的波前變化過程，所述被檢測面光場的所述微元通過所述干涉檢測裝置后在所述理想成像位置時的波前為所述被檢測面光場的所述微元通過所述干涉檢測裝置后的未退化波前； 根據所述被檢測面光場的所述多個微元的所述波前退化模型建立表達式，所述表達式描述所述成像面的像元接收的光場，與所述被檢測面光場的所述多個微元通過所述干涉檢測裝置后的未退化波前的關系，所述成像面的像元接收的光場由所述被檢測面光場的所述多個微元通過所述干涉檢測裝置后傳播至所述像元的波前疊加； 根據所述第一面形結果和所述表達式，求解獲得所述被檢測面光場的所述多個微元通過所述干涉檢測裝置后的未退化波前，根據所述多個微元的未退化波前獲得所述被檢測元件的被檢測面的第二面形結果。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，其通訊地址為：130033 吉林省長春市經濟技術開發區東南湖大路3888號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。