京東方科技集團股份有限公司吳倩紅獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉京東方科技集團股份有限公司申請的專利天線及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115349199B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180000484.8,技術領域涉及:H01Q9/04;該發明授權天線及其制備方法是由吳倩紅;張東東;于海;張亞飛;曲峰設計研發完成,并于2021-03-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本天線及其制備方法在說明書摘要公布了:本公開提供一種天線及其制備方法,屬于通信技術領域。本發明的天線,其包括:介質層;參考電極層,設置在介質層的第一表面上,且參考電極層具有至少一個開槽;至少一個輻射結構,設置在介質層的第二表面上;其中,輻射結構包括間隔設置的多個輻射部;對于任一輻射部均包括間隔設置的輻射元件;任一輻射結構中的多個輻射部至少包括第一輻射部和第二輻射部;至少一條第一微帶線和至少一條第二微帶線,設置在介質層的第二表面上;一條第一微帶線被配置為一個第一輻射部中的輻射元件進行饋電,一條第二微帶線被配置為一個第二輻射部中的輻射元件進行饋電,且第一微帶線的饋電方向與第二微帶線的饋電方向不同。
本發明授權天線及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種天線,其包括: 介質層,具有相對設置的第一表面和第二表面; 參考電極層,設置在所述介質層的第一表面上,且所述參考電極層具有至少一個開槽; 至少一個輻射結構,設置在所述介質層的第二表面上,且一個所述輻射結構在所述介質層上的正投影位于一個所述開槽在所述介質層的正投影內;其中,所述輻射結構包括間隔設置的多個輻射部;對于任一所述輻射部均包括間隔設置的輻射元件;任一所述輻射結構中的多個輻射部至少包括第一輻射部和第二輻射部; 至少一條第一微帶線和至少一條第二微帶線,設置在所述介質層的第二表面上;一條所述第一微帶線被配置為一個所述第一輻射部中的所述輻射元件進行饋電,一條所述第二微帶線被配置為一個所述第二輻射部中的所述輻射元件進行饋電,且所述第一微帶線的饋電方向與第二微帶線的饋電方向不同; 所述天線還包括第一饋電結構和第二饋電結構,所述第一饋電結構和所述第二饋電結構均位于所述介質層的第二表面上,且所述第一饋電結構與所述第一微帶線在所述介質層上的正投影至少部分重疊,所述第二饋電結構與所述第二微帶線在所述介質層上的正投影至少部分重疊; 所述天線劃分為饋電區和輻射區;所述第一饋電結構和所述第二饋電結構位于所述饋電區;所述輻射結構位于所述輻射區;所述參考電極層還具有位于所述饋電區的至少一個輔助開槽;所述輔助開槽與所述第一饋電結構和第二饋電結構在所述介質層上的正投影無重疊;所述參考電極層的位于所述饋電區部分的外輪廓與所述第一饋電結構的外輪廓相同,所述參考電極層的位于饋電區部分的外輪廓與所述第二饋電結構的外輪廓相同。
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