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龍圖騰網(wǎng)獲悉浜松光子學株式會社申請的專利X射線產(chǎn)生裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115380352B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180024407.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J35/16；該發(fā)明授權(quán)X射線產(chǎn)生裝置是由藪下綾介設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-02-12向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本X射線產(chǎn)生裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明的X射線產(chǎn)生裝置具備：電子槍，其具有出射電子束的陰極；第1框體，其容納電子槍；靶，其入射有自電子槍出射的電子束；第2框體，其容納靶；及電子通過路徑，其遍及第1框體與第2框體而設(shè)置，使電子束自第1框體的第1內(nèi)部空間朝第2框體的第2內(nèi)部空間通過。電子通過路徑具有向靶直徑縮小的直徑縮小部。在第1框體，設(shè)置有用于將第1框體內(nèi)的第1內(nèi)部空間真空排氣的第1排氣流路。在第2框體，設(shè)置有用于將第2框體內(nèi)的第2內(nèi)部空間真空排氣的第2排氣流路。

本發(fā)明授權(quán)X射線產(chǎn)生裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種X射線產(chǎn)生裝置，其中， 具備： 電子槍，其具有出射電子束的陰極； 第1框體，其容納所述電子槍； 靶，其入射有自所述電子槍出射的所述電子束； 第2框體，其容納所述靶； 電子通過路徑，其遍及所述第1框體與所述第2框體而設(shè)置，使所述電子束自所述第1框體的第1內(nèi)部空間朝所述第2框體的第2內(nèi)部空間通過，且所述電子通過路徑具有向所述靶直徑縮小的直徑縮小部； 第1排氣流路，其用于將所述第1框體內(nèi)的所述第1內(nèi)部空間真空排氣； 第2排氣流路，其用于將所述第2框體內(nèi)的所述第2內(nèi)部空間真空排氣； 磁聚焦透鏡，其以在較所述電子槍靠后段包圍所述電子通過路徑的第1區(qū)域的方式配置，使所述電子束聚焦； 偏轉(zhuǎn)線圈，其以在所述電子槍和所述磁聚焦透鏡之間包圍所述電子通過路徑的第2區(qū)域的方式配置，構(gòu)成為調(diào)整所述電子束的行進方向；及 磁四極透鏡，其以在所述磁聚焦透鏡的后段包圍所述電子通過路徑的第3區(qū)域的方式配置，使所述電子束的形狀變形， 所述電子通過路徑的所述第1區(qū)域的最大直徑大于所述電子通過路徑的所述第2區(qū)域的最大直徑和所述電子通過路徑的所述第3區(qū)域的最大直徑兩者。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人浜松光子學株式會社，其通訊地址為：日本靜岡縣；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。