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龍圖騰網(wǎng)獲悉芝浦機(jī)械電子裝置株式會(huì)社申請(qǐng)的專(zhuān)利基板處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114975167B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-02發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202210116528.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基板處理裝置是由神谷將也;出村健介設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-02-07向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本基板處理裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供一種能抑制基板的溫度產(chǎn)生面內(nèi)分布的偏差的基板處理裝置。本發(fā)明的實(shí)施方式的基板處理裝置包括：載置部，包含能載置基板的載置臺(tái)，能使所載置的所述基板旋轉(zhuǎn)；冷卻噴嘴，能向所述載置臺(tái)與所述基板之間的空間供給冷卻氣體；液體供給部，能向所述基板的與所述載置臺(tái)側(cè)相反的面供給液體；以及分散板，設(shè)置在所述冷卻噴嘴的所述冷卻氣體的排出側(cè)。所述分散板包含貫通厚度方向的第一孔。從沿著所述冷卻噴嘴的中心軸的方向觀(guān)察，所述第一孔設(shè)置在與所述冷卻噴嘴的中心軸重疊的位置。

本發(fā)明授權(quán)基板處理裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種基板處理裝置，包括： 載置部，包含能夠載置基板的載置臺(tái)，能夠使所載置的所述基板旋轉(zhuǎn)； 冷卻噴嘴，能夠向所述載置臺(tái)與所述基板之間的空間供給冷卻氣體； 液體供給部，能夠向所述基板的與所述載置臺(tái)側(cè)相反的面供給液體；以及 分散板，設(shè)置在所述冷卻噴嘴的所述冷卻氣體的排出側(cè)， 所述分散板包含貫通厚度方向的第一孔， 從沿著所述冷卻噴嘴的中心軸的方向觀(guān)察，所述第一孔設(shè)置在與所述冷卻噴嘴的中心軸重疊的位置， 所述第一孔的截面尺寸比所述冷卻噴嘴的孔的直徑小。

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