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龍圖騰網獲悉合肥圖迅電子科技有限公司申請的專利一種CMOS芯片表面缺陷檢測方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114565558B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210054556.3，技術領域涉及：G06T7/00；該發明授權一種CMOS芯片表面缺陷檢測方法及系統是由李林林;黃東超;李曉燕設計研發完成，并于2022-01-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種CMOS芯片表面缺陷檢測方法及系統在說明書摘要公布了：本發明公開了一種CMOS芯片表面缺陷檢測方法及系統，其中檢測方法包括以下步驟：對待測產品圖像數據中的影像區進行劃分，形成多個檢測區塊；根據灰度值對每個所述檢測區塊分別進行二值化處理；根據二值化處理的結果提取每個所述檢測區塊中的缺陷；對所述缺陷進行像素和或尺寸分析，進一步提取有效缺陷。通過本發明的方法可在CMOS芯片貼膜前準確、快速且穩定地檢出產品表面上的臟污缺陷，對于圖像整體的灰度一致性、均勻性要求降低，方便硬件光源一致性的安裝調試，保證產品中局部區域灰度的一致性，且可兼容不同產品因材料、加工差異引起的整體灰度變化，對灰度對比差異較小的缺陷和細微的缺陷檢測精度更高。

本發明授權一種CMOS芯片表面缺陷檢測方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種CMOS芯片表面缺陷檢測方法，其特征在于，所述檢測方法包括以下步驟： 對待測產品圖像數據中的影像區進行劃分，形成多個檢測區塊； 根據灰度值對每個所述檢測區塊分別進行二值化處理； 根據二值化處理的結果提取每個所述檢測區塊中的缺陷； 對所述缺陷進行像素和或尺寸分析，進一步提取有效缺陷； 選定所述待測產品圖像數據的非影像區的固定灰度值； 根據相較于所述固定灰度值對每個所述非影像區進行二值化處理； 根據二值化處理的結果提取所述非影像區的缺陷； 對所述缺陷進行像素和或尺寸分析，進一步提取有效缺陷，包括： 獲取所述缺陷輪廓的外接矩形和面積； 判斷所述外接矩形和所述缺陷輪廓的像素是否符合有效缺陷，若符合，則判斷所述外接矩形和所述面積的尺寸大小是否符合不良品的卡控標準，在靠近所述卡控標準一定數值內的所述缺陷進行二次分析，具體為：獲取所述缺陷的灰度最高值、灰度最低值以及灰度均值；計算最高灰度值和最低灰度值的差值，記為第一差值，缺陷灰度均值與當前缺陷所在區塊的灰度中值的差值，記為第二差值；若第一差值大于其對應的第一固定值，且第二差值也大于其對應的第二固定值，則需要進行精準的二次分析，在需要進行二次分析時，使用缺陷灰度均值+缺陷灰度均值-當前缺陷所在區塊的灰度中值*Value，Value表示占比，為0或10％，重新提取原始圖像的缺陷，以重新計算缺陷尺寸。

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