中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司嚴中穩獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115793379B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111054531.5，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質是由嚴中穩;陳術;陳巧麗;羅連波設計研發完成，并于2021-09-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質在說明書摘要公布了：一種光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質，修正方法包括：提供多個設計圖形，設計圖形包括待檢測的待測圖形；選擇待測圖形中待檢測的邊作為待選邊；在待測圖形外側獲得待選邊所對應的搜索區，搜索區包括以待選邊作為其中一邊的矩形第一搜索區、以及位于第一搜索區兩側且與第一搜索區鄰接的扇形第二搜索區，第二搜索區的圓心與同側的待選邊的端點重合，且圓心角為90度，第二搜索區的半徑等于第一搜索區中與待選邊相垂直的邊的長度；利用搜索區對待測圖形外側進行圖形搜索，查看搜索區中是否出現其他設計圖形；當搜索區中出現其他設計圖形時，待選邊被選中，并用于作為待處理邊。本發明有利于進行更精準地選邊操作。
本發明授權光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括： 提供多個設計圖形，所述設計圖形包括待檢測的待測圖形； 選擇所述待測圖形中待檢測的邊作為待選邊； 在所述待測圖形外側獲得所述待選邊所對應的搜索區，所述搜索區包括以所述待選邊作為其中一邊的矩形第一搜索區、以及位于所述第一搜索區兩側且與所述第一搜索區鄰接的扇形第二搜索區，所述第二搜索區的圓心與同側的所述待選邊的端點重合，且圓心角為90度，所述第二搜索區的半徑等于所述第一搜索區中與所述待選邊相垂直的邊的長度； 利用所述搜索區對所述待測圖形外側進行圖形搜索，查看所述搜索區中是否出現其他設計圖形； 當所述搜索區中出現其他設計圖形時，所述待選邊被選中，并用于作為待處理邊。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國（上海）自由貿易試驗區張江路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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