上海微電子裝備(集團)股份有限公司朱振南獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海微電子裝備(集團)股份有限公司申請的專利用于校準拼接物鏡拼接誤差的方法及系統以及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115561967B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110744358.5，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于校準拼接物鏡拼接誤差的方法及系統以及存儲介質是由朱振南;宋濤;趙曉偉設計研發完成，并于2021-07-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于校準拼接物鏡拼接誤差的方法及系統以及存儲介質在說明書摘要公布了：本發明提供了一種用于校準拼接物鏡拼接誤差的方法及系統以及存儲介質，應用于半導體設備制造領域。在本發明實施例中，通過將掩膜上的第一標記組移動到第一行物鏡的視場中，并將第一行標記組曝光在基板的預定位置上，然后移動基板，將曝光有第一標記組的所述預定位置移動到第二行物鏡的視場中，并將掩膜上的第二標記組曝光在基板的預定位置，再根據第一標記組和第二標記組中的標記在基板上的實際位置，精確獲取兩行物鏡中需要拼接的兩個相鄰物鏡之間的拼接誤差，并通過所述拼接誤差對需要拼接的兩個相鄰物鏡進行補償校準，從而可提高物鏡拼接誤差的估計精度。
本發明授權用于校準拼接物鏡拼接誤差的方法及系統以及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種用于校準拼接物鏡拼接誤差的方法，其中，若干個物鏡交錯設置并分布于兩行，其特征在于，所述方法包括： S1，將掩膜上的第一標記組移動到第一行物鏡的視場中，并將所述第一標記組曝光在基板的預定位置上； S2，移動所述基板，以將曝光有所述第一標記組的所述預定位置移動到第二行物鏡的視場中，并將掩膜上的第二標記組曝光在所述基板的所述預定位置； S3，根據所述第一標記組和所述第二標記組曝光在所述基板上的實際位置，獲取兩行物鏡中需要拼接的兩個相鄰物鏡之間的拼接誤差； S4，根據所述拼接誤差對所述需要拼接的兩個相鄰物鏡進行補償校準。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海微電子裝備(集團)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區張東路1525號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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