富士膠片株式會社有年陽平獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉富士膠片株式會社申請的專利轉印膜、層疊體的制造方法及封端異氰酸酯化合物獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115668057B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180037909.2，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權轉印膜、層疊體的制造方法及封端異氰酸酯化合物是由有年陽平;豐岡健太郎;兒玉邦彥設計研發完成，并于2021-05-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本轉印膜、層疊體的制造方法及封端異氰酸酯化合物在說明書摘要公布了：本發明的課題在于提供一種能夠抑制配線及電極的腐蝕的轉印膜。并且，本發明的課題還在于提供一種使用上述轉印膜而成的層疊體的制造方法。并且，本發明的課題還在于提供一種新型封端異氰酸酯化合物。本發明的轉印膜具有臨時支承體及配置于臨時支承體上的感光性組合物層，感光性組合物層包含堿溶性樹脂、聚合性化合物、聚合引發劑及NCO值為4.5mmolg以上的封端異氰酸酯化合物。
本發明授權轉印膜、層疊體的制造方法及封端異氰酸酯化合物在權利要求書中公布了：1.一種轉印膜，其具有臨時支承體、配置于臨時支承體上的感光性組合物層， 所述述感光性組合物層包含堿溶性樹脂、聚合性化合物、聚合引發劑及NCO值為4.5mmolg以上的封端異氰酸酯化合物， 所述封端異氰酸酯化合物為由式Q表示的封端異氰酸酯化合物，或者，所述封端異氰酸酯化合物為由式QA表示的封端異氰酸酯化合物， B1-A1-L1-A2-B2式Q 式Q中，B1及B2分別獨立地表示封端異氰酸酯基，A1及A2分別獨立地表示單鍵或碳原子數1～10的亞烷基，L1表示二價連接基團， B1a-A1a-L1a-A2a-B2a式QA 式QA中，B1a及B2a分別獨立地表示封端異氰酸酯基，A1a及A2a分別獨立地表示二價連接基團，L1a表示環狀的二價飽和烴基或二價芳香族烴基。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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