京瓷株式會(huì)社西村剛太獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉京瓷株式會(huì)社申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體元件的制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115443519B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-02發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202180030661.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/02;該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體元件的制造方法是由西村剛太設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-04-27向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本半導(dǎo)體元件的制造方法在說(shuō)明書摘要公布了:在本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的制造方法中,第一半導(dǎo)體部SL1具有朝向襯底基板UK突出的凸部TS,凸部包含氮化物半導(dǎo)體,凸部與襯底基板接合,半導(dǎo)體基板HK具有位于襯底基板與第一半導(dǎo)體部間的中空部TK,中空部與凸部的側(cè)面相接,且與半導(dǎo)體基板的外部相通,在將第一半導(dǎo)體部從半導(dǎo)體基板分離之前,進(jìn)行激光LZ向凸部TS的照射。
本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體元件的制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種半導(dǎo)體元件的制造方法,包括: 準(zhǔn)備半導(dǎo)體基板的工序,所述半導(dǎo)體基板具有襯底基板、掩模及第一半導(dǎo)體部,所述掩模位于所述襯底基板上且包含多個(gè)掩模部以及開口部,所述第一半導(dǎo)體部包含位于所述開口部且與所述襯底基板連接的朝下的凸部、及位于各掩模部上的寬度比所述凸部寬且為低位錯(cuò)密度的低位錯(cuò)部; 對(duì)所述凸部照射激光而使所述凸部脆弱化的工序,所述凸部位于所述多個(gè)掩模部之間,包含氮化物半導(dǎo)體,且具有比所述低位錯(cuò)部小的寬度;以及 使脆弱化后的所述凸部斷裂而將所述第一半導(dǎo)體部從所述襯底基板分離的工序。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人京瓷株式會(huì)社,其通訊地址為:日本京都府;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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