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龍圖騰網獲悉中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利圖形設計方法和系統、掩膜版的組合產品、設備及介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114330171B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011061117.2，技術領域涉及：G06F30/30；該發明授權圖形設計方法和系統、掩膜版的組合產品、設備及介質是由吳維維;吳宗曄;王興榮設計研發完成，并于2020-09-30向國家知識產權局提交的專利申請。

本圖形設計方法和系統、掩膜版的組合產品、設備及介質在說明書摘要公布了：一種圖形設計方法及其系統、掩膜版組合、設備及存儲介質，所述圖形的形成方法包括雙重圖形化，圖形設計方法包括：提供初始圖形，包括多個初始圖案；設置臨界拆分線寬和臨界拆分間距；設定在沿第二方向上的投影相交疊的參考邊緣圖案；基于臨界拆分線寬和臨界拆分間距以及初始圖案與相鄰初始圖案或參考邊緣圖案之間在沿第二方向上的投影相交疊，獲得多個待測圖案，待測圖案與參考邊緣圖案組成閉合環；獲取待測圖案的數量作為第一數值；獲得閉合環中相鄰初始圖案之間的間距大于分解圖案最小線寬的數量作為第二數值；判斷第一數值和第二數值之和是否為奇數。本發明實施例對初始圖形是否能夠進行雙重圖形化進行判斷，有利于避免雙重圖形化沖突。

本發明授權圖形設計方法和系統、掩膜版的組合產品、設備及介質在權利要求書中公布了：1.一種圖形設計方法，所述圖形的形成方法包括雙重圖形化，其特征在于，包括： 提供初始圖形，所述初始圖形包括多個相間隔的初始圖案，所述初始圖案沿第一方向延伸，與所述第一方向相垂直的方向為第二方向； 基于雙重圖形化拆分規則，設置所述初始圖案對應的臨界拆分線寬和臨界拆分間距； 設定參考邊緣圖案，所述參考邊緣圖案在沿所述第二方向上的投影相交疊； 基于所述臨界拆分線寬和臨界拆分間距，以及位于所述參考邊緣圖案之間且初始圖案與相鄰初始圖案或參考邊緣圖案之間在沿第二方向上的投影相交疊，獲得多個待測圖案，所述多個待測圖案與參考邊緣圖案組成閉合環； 獲取所述待測圖案的數量，作為第一數值； 所述雙重圖形化拆分規則包括分解圖案的最小線寬；獲得所述閉合環中相鄰待測圖案之間的間距、以及待測圖案與相鄰參考邊緣圖案之間的間距，大于所述最小線寬的數量，作為第二數值； 判斷所述第一數值和第二數值之和是否為奇數； 當所述第一數值和第二數值之和為偶數時，判斷所述初始圖形能夠進行雙重圖形化。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國（上海）自由貿易試驗區張江路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。