皇家飛利浦有限公司T·克勒獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉皇家飛利浦有限公司申請的專利用于X射線暗場、相襯和衰減圖像采集的系統和方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114302677B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080059753.3,技術領域涉及:A61B6/00;該發明授權用于X射線暗場、相襯和衰減圖像采集的系統和方法是由T·克勒設計研發完成,并于2020-08-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于X射線暗場、相襯和衰減圖像采集的系統和方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種用于X射線暗場、相襯和衰減圖像采集的系統1010,所述系統包括:X射線源1020;干涉儀裝置1030;X射線探測器1040;控制單元1050;至少一個振動換能器1080;處理單元1090;以及輸出單元1060。軸線被定義為從所述X射線源的中心延伸到所述X射線探測器的中心。檢查區域位于所述X射線源與所述X射線探測器之間,其中,所述軸線延伸通過所述檢查區域,并且其中,所述檢查區域被配置為使得能夠定位要檢查的對象。所述干涉儀裝置位于所述X射線源與所述X射線探測器之間,并且其中,所述干涉儀裝置包括第一光柵1032和第二光柵1034。針對第一操作模式:所述控制單元被配置為控制至少一個橫向移動換能器1070,以在垂直于所述軸線的橫向位置方向上移動所述第一光柵或移動所述第二光柵。所述控制單元被配置為控制所述X射線探測器以在所述第一光柵和或所述第二光柵正在移動時采集圖像數據。在所述X射線探測器的曝光時間期間,所述第一光柵和或所述第二光柵已經移動了小于所述第一光柵和或所述第二光柵的周期的距離。所述控制單元被配置為控制所述第一光柵和或所述第二光柵的移動,使得在所述第一光柵和或所述第二光柵正在移動時采集所述圖像數據。所述輸出單元被配置為輸出以下各項中的一項或多項:暗場圖像數據、相襯圖像數據和衰減圖像數據;針對第二操作模式:所述控制單元被配置為控制所述X射線探測器以在所述第一光柵和或所述第二光柵在所述X射線探測器的曝光時間期間正在移動時采集多個圖像數據中的每個圖像數據。所述控制單元被配置為控制所述至少一個振動換能器以使所述第一光柵和或所述第二光柵振動。振動的幅度大于或等于所述第一光柵和或所述第二光柵的所述周期。所述處理單元被配置為生成衰減圖像數據和或校準數據,包括對所述多個圖像數據中的至少一些圖像數據的時間低通濾波版本的確定。所述輸出單元被配置為輸出所述衰減圖像數據和或所述校準數據。
本發明授權用于X射線暗場、相襯和衰減圖像采集的系統和方法在權利要求書中公布了:1.一種用于X射線暗場、相襯和衰減圖像采集的系統,所述系統包括: X射線源; 干涉儀裝置; X射線探測器; 控制單元; 至少一個振動換能器; 處理單元;以及 輸出單元; 其中,軸線被定義為從所述X射線源的中心延伸到所述X射線探測器的中心; 其中,檢查區域位于所述X射線源與所述X射線探測器之間,其中,所述軸線延伸通過所述檢查區域,并且其中,所述檢查區域被配置為使得能夠定位要檢查的對象; 其中,所述干涉儀裝置位于所述X射線源與所述X射線探測器之間,并且其中,所述干涉儀裝置包括第一光柵和第二光柵; 其中,針對第一操作模式: 所述控制單元被配置為控制至少一個橫向移動換能器,以在垂直于所述軸線的橫向位置方向上移動所述第一光柵或移動所述第二光柵;并且 其中,所述控制單元被配置為控制所述X射線探測器以在所述第一光柵和或所述第二光柵正在移動時采集圖像數據,其中,在所述X射線探測器的曝光時間期間,所述第一光柵和或所述第二光柵已經移動了小于所述第一光柵和或所述第二光柵的周期的距離,并且其中,所述控制單元被配置為控制所述第一光柵和或所述第二光柵的移動,使得在所述第一光柵和或所述第二光柵正在移動時采集所述圖像數據;并且 其中,針對所述第一操作模式,所述輸出單元被配置為輸出以下各項中的一項或多項:暗場圖像數據、相襯圖像數據和衰減圖像數據; 其中,針對第二操作模式: 所述控制單元被配置為控制所述X射線探測器以在所述第一光柵和或所述第二光柵在所述X射線探測器的曝光時間期間正在移動時采集多個圖像數據中的每個圖像數據; 所述控制單元被配置為控制所述至少一個振動換能器以使所述第一光柵和或所述第二光柵振動,其中,振動的幅度大于或等于所述第一光柵和或所述第二光柵的所述周期; 所述處理單元被配置為生成衰減圖像數據和或校準數據,包括對所述多個圖像數據中的至少一些圖像數據的時間低通濾波版本的確定;并且 其中,針對所述第二操作模式,所述輸出單元被配置為輸出所述衰減圖像數據和或所述校準數據。
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