浙江大學;浙江大學衢州研究院張治國獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉浙江大學;浙江大學衢州研究院申請的專利一種基于低共熔溶劑調控恩格列凈晶習的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120463696B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510954399.5，技術領域涉及：C07D407/12；該發明授權一種基于低共熔溶劑調控恩格列凈晶習的方法是由張治國;呂逍雨;洪龍城;申雅靚;張超設計研發完成，并于2025-07-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于低共熔溶劑調控恩格列凈晶習的方法在說明書摘要公布了：本發明申請提供了一種基于低共熔溶劑精準調控恩格列凈晶習的方法，屬于醫藥技術領域。可控晶習的恩格列凈制備方法包括：步驟S100：將四丁基氯化銨與馬來酸按照摩爾比1:2?1:5混合，在50?60℃攪拌反應2?4小時，制備低共熔溶劑；步驟S200：將恩格列凈原料加入低共熔溶劑中，控制濃度為5?15mgmL，在40?50℃下攪拌溶解，將溶液以0.5?2℃min的降溫速率緩慢降溫至30?35℃，使恩格列凈形成立方體或片狀晶習；步驟S300：結晶完成后，采用減壓過濾分離晶體與低共熔溶劑，用乙醇洗滌晶體，在45?55℃、1?3kPa條件下真空干燥至恒重。本發明申請的可控晶習的恩格列凈制備方法工藝簡單，低共熔溶劑可以重復利用，綠色低成本。
本發明授權一種基于低共熔溶劑調控恩格列凈晶習的方法在權利要求書中公布了：1.一種基于低共熔溶劑調控恩格列凈晶習的方法，其特征在于，包括： 步驟S100：將四丁基氯化銨與馬來酸按照摩爾比1:2-1:5混合，攪拌反應形成均一液態溶劑，制備低共熔溶劑； 步驟S200：將恩格列凈原料加入低共熔溶劑中，控制濃度為5-15mgmL，攪拌溶解，溶液降溫，使恩格列凈形成立方體晶習和或片狀晶習； 步驟S300：結晶完成后，采用減壓過濾分離晶體與低共熔溶劑，洗滌晶體，干燥至恒重； 所述步驟S100，在50-60℃攪拌反應2-4小時； 所述步驟S200，在40-50℃下攪拌溶解，將溶液以0.5-2℃min的降溫速率緩慢降溫至30-35℃。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江大學;浙江大學衢州研究院，其通訊地址為：310058 浙江省杭州市西湖區余杭塘路866號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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