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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會社東芝;東芝電子元件及存儲裝置株式會社申請的專利盤裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115116491B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110908635.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G11B21/12；該發(fā)明授權(quán)盤裝置是由加藤泰彥設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-08-09向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本盤裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供斜坡能夠更可靠地支承懸架的盤裝置。一個實施方式的盤裝置具有記錄介質(zhì)、磁頭、斜坡及致動器。所述記錄介質(zhì)具有記錄面，能夠繞著第1旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。所述致動器具有從第2旋轉(zhuǎn)軸離開并且以越從所述第2旋轉(zhuǎn)軸離開則越從所述記錄面離開的方式延伸的滑動部，保持所述磁頭，能夠繞著所述第2旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。第1支承部設(shè)置于所述斜坡，繞著所述第2旋轉(zhuǎn)軸延伸，能夠以使所述磁頭從所述記錄面離開的方式保持所述滑動部。第2支承部設(shè)置于所述斜坡，位于所述第1旋轉(zhuǎn)軸與所述第1支承部之間，比所述第1支承部從所述第2旋轉(zhuǎn)軸離開，能夠支承所述滑動部。

本發(fā)明授權(quán)盤裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種盤裝置，具備： 記錄介質(zhì)，具有記錄面，能夠繞著與所述記錄面交叉的第1旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)； 磁頭，構(gòu)成為對所述記錄介質(zhì)讀寫信息； 斜坡，從所述第1旋轉(zhuǎn)軸離開； 致動器，具有從第2旋轉(zhuǎn)軸離開的滑動部和位于所述滑動部與所述第2旋轉(zhuǎn)軸之間且保持所述磁頭的保持部，構(gòu)成為在加載位置與卸載位置之間繞著所述第2旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，所述加載位置是所述磁頭位于所述記錄面上的位置，所述卸載位置是以使得在所述第1旋轉(zhuǎn)軸的軸向上所述磁頭比所述加載位置的所述磁頭從所述記錄面離開的方式所述滑動部保持于所述斜坡的位置； 第1支承部，設(shè)置于所述斜坡，繞著所述第2旋轉(zhuǎn)軸延伸，構(gòu)成為在所述致動器位于所述加載位置與所述卸載位置之間的第1滑動位置時以使所述磁頭在所述軸向上比所述加載位置的所述磁頭從所述記錄面離開的方式支承所述滑動部的第1部分；及 第2支承部，設(shè)置于所述斜坡，構(gòu)成為在所述致動器位于所述加載位置與所述第1滑動位置之間的第2滑動位置時支承比所述第1部分從所述第2旋轉(zhuǎn)軸離開且在所述軸向上比所述第1部分從所述記錄面離開的所述滑動部的第2部分， 所述斜坡具有平面和斜面， 所述第1支承部設(shè)置于所述第2旋轉(zhuǎn)軸的徑向的內(nèi)側(cè)的所述平面和所述斜面的一部分的端緣， 所述第2支承部具有繞著所述第2旋轉(zhuǎn)軸延伸的第1延伸部， 所述第2支承部具有設(shè)置于所述第1延伸部與所述第1支承部之間的第2延伸部， 所述第2支承部設(shè)置于所述第2旋轉(zhuǎn)軸的徑向的內(nèi)側(cè)的所述斜面的一部分的端緣， 所述第1延伸部在所述第2旋轉(zhuǎn)軸的周向上呈大致圓弧狀地延伸。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人株式會社東芝;東芝電子元件及存儲裝置株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。