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龍圖騰網(wǎng)獲悉NOK株式會(huì)社申請(qǐng)的專利導(dǎo)電輥?zhàn)印D像形成設(shè)備及用于導(dǎo)電輥?zhàn)拥臋z測(cè)方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115997175B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180045576.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03G15/02；該發(fā)明授權(quán)導(dǎo)電輥?zhàn)印D像形成設(shè)備及用于導(dǎo)電輥?zhàn)拥臋z測(cè)方法是由鈴木章吾;池田篤;福岡智;佐佐木憲司設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-05-10向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本導(dǎo)電輥?zhàn)印D像形成設(shè)備及用于導(dǎo)電輥?zhàn)拥臋z測(cè)方法在說(shuō)明書摘要公布了：一種導(dǎo)電輥?zhàn)影ǎ盒静繕?gòu)件，芯部構(gòu)件包括外表面，外表面沿著并圍繞芯部構(gòu)件的軸線；以及表面層，表面層沿著芯部構(gòu)件的外表面布置。表面層包括導(dǎo)電部分，以及表面粗糙度賦予材料，表面粗糙度賦予材料呈分散在導(dǎo)電部分中的顆粒的形式。表面粗糙度賦予材料的平均顆粒尺寸在大于或等于6微米并且小于10微米的范圍內(nèi)。表面層的每單位面積上的表面粗糙度賦予材料的顆粒的數(shù)量在大于或等于3.5×105個(gè)顆粒mm2并且小于或等于7.5×105個(gè)顆粒mm2的范圍內(nèi)。表面層的平均厚度在大于或等于0.2微米并且小于或等于5.5微米的范圍內(nèi)。

本發(fā)明授權(quán)導(dǎo)電輥?zhàn)印D像形成設(shè)備及用于導(dǎo)電輥?zhàn)拥臋z測(cè)方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于導(dǎo)電輥?zhàn)拥臋z測(cè)方法，所述檢測(cè)方法是用于確定所述導(dǎo)電輥?zhàn)拥奶卣魇欠窳己玫臋z測(cè)方法，所述導(dǎo)電輥?zhàn)影ǎ盒静繕?gòu)件，所述芯部構(gòu)件包括外表面，所述外表面沿著并圍繞所述芯部構(gòu)件的軸線；以及表面層，所述表面層沿著所述芯部構(gòu)件的外表面布置，所述表面層包括：導(dǎo)電部分；以及表面粗糙度賦予材料，所述表面粗糙度賦予材料呈分散在所述導(dǎo)電部分中的顆粒的形式，表面粗糙度賦予材料的平均顆粒尺寸在大于或等于6微米并且小于10微米的范圍內(nèi)，并且所述表面層的平均厚度在大于或等于0.2微米并且小于或等于5.5微米的范圍內(nèi)，所述檢測(cè)方法包括： 計(jì)算所述表面層的每單位面積上的所述表面粗糙度賦予材料的顆粒的數(shù)量；以及 基于顆粒的所述數(shù)量在大于或等于3.5×105個(gè)顆粒mm2并且小于或等于7.5×105個(gè)顆粒mm2的范圍內(nèi)，確定所述導(dǎo)電輥?zhàn)拥奶卣髁己谩?

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