富士施樂株式會社山浦正彰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉富士施樂株式會社申請的專利圖像形成裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112445092B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010504323.X，技術領域涉及：G03G15/00；該發明授權圖像形成裝置是由山浦正彰;富永宜幸;荒木光太郎;野口步設計研發完成，并于2020-06-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本圖像形成裝置在說明書摘要公布了：本發明提供圖像形成裝置，其具有：像保持單元，其保持利用顯影劑形成的、以向介質的轉印為目的的圖像和不以向介質的轉印為目的的圖像；轉印單元，其將所述以向介質的轉印為目的的圖像轉印至介質；去除單元，其將所述不以向介質的轉印為目的的圖像從所述像保持單元去除；以及形成單元，其利用顯影劑在所述像保持單元上形成所述不以向介質的轉印為目的的圖像，且具有第1介質用的第1形成模式、和轉印性靈敏度比所述第1介質低的第2介質用的第2形成模式，在所述第1形成模式中，與所述第2形成模式相比，所述形成單元使所述不以向介質的轉印為目的的圖像的形成所使用的顯影劑的量更多。
本發明授權圖像形成裝置在權利要求書中公布了：1.一種圖像形成裝置，其中，該圖像形成裝置具有： 像保持單元，其保持利用顯影劑形成的、以向介質的轉印為目的的圖像和不以向介質的轉印為目的的圖像； 轉印單元，其將所述以向介質的轉印為目的的圖像轉印至介質； 去除單元，其將所述不以向介質的轉印為目的的圖像從所述像保持單元去除；以及 形成單元，其利用顯影劑在所述像保持單元上形成所述不以向介質的轉印為目的的圖像，且具有第1介質用的第1形成模式、和表面粗糙度比所述第1介質小或介質密度比所述第1介質大的第2介質用的第2形成模式，在所述第1形成模式中，與所述第2形成模式相比，所述形成單元使所述不以向介質的轉印為目的的圖像的形成所使用的顯影劑的量更多。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人富士施樂株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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