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龍圖騰網獲悉江蘇普諾威電子股份有限公司申請的專利具有高縱橫比導通孔的封裝載板及其加工方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116646254B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310632562.7，技術領域涉及：H01L21/48；該發明授權具有高縱橫比導通孔的封裝載板及其加工方法是由馬洪偉;宗芯如;楊飛;姜壽福設計研發完成，并于2023-05-31向國家知識產權局提交的專利申請。

本具有高縱橫比導通孔的封裝載板及其加工方法在說明書摘要公布了：本申請涉及一種具有高縱橫比導通孔的封裝載板及其加工方法，所述加工方法包括準備基板、第一次鐳射前處理、第一次鐳射鉆孔、第一次除膠沉銅、第一次填孔電鍍、微蝕減銅、研磨、棕化、增厚、第二次鐳射前處理、第二次鐳射鉆孔、第二次除膠沉銅、第二次填孔電鍍、外層線路、外層防焊、表面處理、成型得成品載板、成品測試、成品檢驗和包裝出貨。通過該加工方法得到的載板介厚即絕緣層的厚度不受限制，滿足敏感性元器件對載板剛性的需求。

本發明授權具有高縱橫比導通孔的封裝載板及其加工方法在權利要求書中公布了：1.一種具有高縱橫比導通孔的封裝載板的加工方法，其特征在于：包括如下步驟： 準備基板：裝備具有第一絕緣層11的基板10； 第一次鐳射前處理：對基板10進行前處理以便于后續的鐳射鉆孔； 第一次鐳射鉆孔：利用鐳射的方式在第一絕緣層11上鉆出通孔13； 第一次除膠沉銅：去除鐳射過程產生的廢渣并沉銅形成種子層； 第一次填孔電鍍：利用電鍍方法將通孔13中塞滿銅； 微蝕減銅：使用化學藥水對表層銅厚進行微蝕減薄，剩余的銅厚控制在2-6μm； 研磨：將表層銅去除只保留銅塞孔，同時粗化第一絕緣層11表面； 棕化：粗化塞孔處的銅面，增加銅面與壓合絕緣層的結合力，降低信賴性風險； 增厚：在第一絕緣層11的雙面壓第二絕緣層21，以增加絕緣層的厚度，得到增厚板20； 第二次鐳射前處理：對增厚板20進行前處理以便于后續的鐳射處理； 第二次鐳射鉆孔：利用鐳射的方式在第二絕緣層21上鉆出盲孔31； 第二次除膠沉銅：去除鐳射過程產生的廢渣并沉銅形成種子層； 第二次填孔電鍍：利用電鍍方法將盲孔31中塞滿銅，得到半成品板30； 后工序：將半成品板30依次經過如下步驟處理：外層線路、外層防焊、表面處理、成型得成品載板40、成品測試、成品檢驗和包裝出貨； 其中，根據成品載板40中絕緣層厚度的要求，可重復微蝕減銅步驟至第二次填孔電鍍步驟； 當通過第二次填孔電鍍制作出半成品板30后，對半成品板30進行N次以下處理：內層線路、棕化、壓合增層、微蝕減銅、鐳射開窗、鐳射盲孔、鐳射鉆孔、除膠沉銅和填孔電鍍，最后將增層后的半成品板進行后工序處理得到多層的成品載板，其中，N≥1，且N為整數； 在第一次鐳射鉆孔中，所述通孔13為X型孔，X型孔的腰部直徑為D1,X型孔的兩端的直徑為D2，其中，30μm≤D1≤0.7*D2； 在第二次鐳射鉆孔工藝中，所述通孔兩側的盲孔31沿通孔13的中心點呈對稱布置，所述第二絕緣層21的厚度小于40μm； 在準備基板工藝中，所述基板10包括第一絕緣層11以及分別設置于所述第一絕緣層11正、反兩面的第一銅箔層12，所述第一銅箔層12為普通銅箔層或超薄銅箔層，其中，所述普通銅箔層的厚度為9μm至35μm，所述超薄銅箔層的厚度為2μm至6μm； 或， 在準備基板工藝中，所述基板10包括第一絕緣層11以及壓合于所述第一絕緣層11正、反兩面的離型膜，即所述基板10為無基銅基板； 當第一銅箔層12為普通銅箔層時，第一次鐳射前處理工藝包括： 微蝕減銅：降低電鍍前銅厚，最終控制電鍍后的銅厚，維持較薄狀態以便于后續減銅； 鐳射孔開窗：通過蝕刻的方式在第一銅箔層12上開出鐳射孔開窗； 或，當第一銅箔層12為超薄銅箔層時，第一次鐳射前處理工藝包括：LDD棕化：粗化銅面，便于激光破銅； 或，當基板10為無基銅基板時，第一次鐳射前處理工藝包括：剝離離型膜； 當第二銅箔層22為普通銅箔層時，第二次鐳射前處理工藝包括： 微蝕減銅：降低電鍍前銅后，最終控制電鍍后的銅厚； 鐳射孔開窗：通過蝕刻的方式在第二銅箔層22上開出鐳射孔開窗； 或，當第二銅箔層22為超薄銅箔層時，第二次鐳射前處理工藝包括：LDD棕化：粗化銅面，便于激光破銅； 或，當第二絕緣層21上貼合離型膜時，第二次鐳射前處理工藝包括：剝離離型膜。

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