富士膠片株式會社芳賀雅之獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉富士膠片株式會社申請的專利高分子復合壓電體及壓電薄膜獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114008805B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080044779.0,技術領域涉及:H10N30/85;該發明授權高分子復合壓電體及壓電薄膜是由芳賀雅之設計研發完成,并于2020-06-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本高分子復合壓電體及壓電薄膜在說明書摘要公布了:本發明提供一種在各種濕度環境下,抑制壓電轉換效率的變化,具有穩定的壓電轉換特性的高分子復合壓電體及壓電薄膜。高分子復合壓電體在含有高分子材料的基質中含有壓電體粒子,將高分子復合壓電體沿厚度方向切斷并以12.5mm×25mm的尺寸切出樣品,對該樣品通過水銀壓入法測量水銀的壓入量,將壓入量除以樣品的截面面積而求出的單位面積的細孔容積為0.01μLmm2~1.7μLmm2。
本發明授權高分子復合壓電體及壓電薄膜在權利要求書中公布了:1.一種高分子復合壓電體,所述高分子復合壓電體在含有高分子材料的基質中含有壓電體粒子, 所述高分子復合壓電體的單位面積的細孔容積為0.01μLmm2~1.7μLmm2,所述單位面積的細孔容積是以如下方式求出的:將兩面形成有電極層的所述高分子復合壓電體沿厚度方向切斷并以12.5mm×25mm的尺寸切出樣品,對該樣品通過水銀壓入法測量水銀的壓入量,將所述壓入量除以所述樣品的截面面積而求出單位面積的細孔容積。
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