東京毅力科創株式會社田中幸二獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基片處理裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN109698146B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201811240941.7，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基片處理裝置是由田中幸二;池田貴志;益富裕之設計研發完成，并于2018-10-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片處理裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種能夠均勻地蝕刻基片的基片處理裝置。實施方式的基片處理裝置包括基片處理槽、處理液供給噴嘴和調壓板。處理液供給噴嘴設置在基片處理槽內的下方，從多個排出口排出處理液。調壓板設置在處理液供給噴嘴與基片處理槽內的基片之間，具有使處理液流通的多個孔，調節從處理液供給噴嘴排出的處理液的流入壓力。另外，調壓板具有從處理液供給噴嘴側的面突出且將處理液供給噴嘴側的面劃分為多個劃分區域的棱。
本發明授權基片處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括： 基片處理槽； 處理液供給噴嘴，其設置在所述基片處理槽內的下方，從多個排出口排出處理液； 調壓板，其設置在所述處理液供給噴嘴與所述基片處理槽內的基片之間，具有使所述處理液流通的多個孔，調節從所述處理液供給噴嘴排出的所述處理液的流入壓力；和 氣泡產生部或者氣泡產生噴嘴，所述氣泡產生部在向所述處理液供給噴嘴供給所述處理液的處理液供給路徑中產生氣泡，所述氣泡產生噴嘴是設置在所述基片處理槽內的與所述處理液供給噴嘴不同的噴嘴，能夠在所述基片處理槽內產生氣泡， 所述調壓板具有從所述處理液供給噴嘴側的面突出的將所述處理液供給噴嘴側的面劃分為多個劃分區域的棱，所述棱在利用混合有氣泡的所述處理液對所述基片進行處理時，抑制氣泡在所述劃分區域之間的移動，從而抑制通過所述多個孔向上方流動的氣泡發生不均。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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