湖北工業大學沈華獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉湖北工業大學申請的專利一種適用于低算力設備的目標識別方法及系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116206127B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310115691.9,技術領域涉及:G06V10/44;該發明授權一種適用于低算力設備的目標識別方法及系統是由沈華;王志偉;張明武設計研發完成,并于2023-02-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種適用于低算力設備的目標識別方法及系統在說明書摘要公布了:本發明公開了一種適用于低算力設備的目標識別方法及系統,將采集的原始目標圖像輸入目標識別網絡,輸出高精度高穩定性的特征圖;本發明提供的目標識別網絡,包括順序連接的一個3×3的conv基本單元、1個dp基本單元、1個R?ECA模塊、2個dp基本單元、1個R?ECA模塊、2個dp基本單元、1個R?ECA模塊、5個dp基本單元、1個R?ECA模塊、2個dp基本單元、1個R?ECA模塊;其中conv代表一個傳統卷積層,dp代表一個深度可分離卷積層;conv基本單元和dp基本單元的輸出均經過BN層和ReLU非線性激活函數處理后再輸入下一單元。本發明可以有效提高網絡的精度和穩定性,并適用于低算力設備。
本發明授權一種適用于低算力設備的目標識別方法及系統在權利要求書中公布了:1.一種適用于低算力設備的目標識別方法,其特征在于:將采集的原始目標圖像輸入目標識別網絡,輸出高精度高穩定性的特征圖; 所述目標識別網絡,包括順序連接的一個3×3的conv基本單元、1個dp基本單元、1個R-ECA模塊、2個dp基本單元、1個R-ECA模塊、2個dp基本單元、1個R-ECA模塊、5個dp基本單元、1個R-ECA模塊、2個dp基本單元、1個R-ECA模塊;其中conv代表一個傳統卷積層,dp代表一個深度可分離卷積層;所述conv基本單元和dp基本單元的輸出均經過BN層和ReLU非線性激活函數處理后再輸入下一單元; 所述R-ECA模塊,包括繞道機制子模塊和跨通道交互子模塊;所述繞道機制的工作流程為: Wlxl⊕WdpWdp...Wdpxl...; 其中,Wl是1×1卷積操作,W1d是一維卷積,Wdp表示深度可分離卷積操作;繞道機制子模塊包括n個深度可分離卷積模塊和一個升維模塊,深度可分離卷積模塊中深度卷積的卷積核大小皆為3×3,步長皆為1;升維模塊的卷積核大小為1×1,初始步長為1;設輸入為xl,對xl執行以下操作:首先,支線的升維度模塊先對xl進行升維,得到Hxl,同時主線對xl進行一系列的深度可分離卷積操作,得到Fxl,最后將Hxl與Fxl相加;得到繞道機制的輸出,此處的輸出代表R-ECA模塊的輸出; 所述跨通道交互子模塊的工作流程為: 其中,xl為輸入,Wl是1×1卷積操作,W1d是一維卷積,WGAP是全局池化操作,Wdp深度可分離卷積操作;主線部分對輸入xl使用卷積操作,得到Fxl,Fxl過全局平均池化,將h和w維度都變成1,其中,h和w分別表示特征圖的長和寬,只保留channel維度,然后經過1D卷積,使得每層的channel與相鄰層的channel進行信息交互,共享權重;使用Sigmoid進行處理;將輸入xl與處理好的特征圖權重進行相乘,得到F′xl;同時支線部分對輸入xl使用升維模塊進行升維,得到輸出Hxl并保存,使得Hxl的維度與F′xl維度相同,此時完成一次繞道;Hxl和F′xl相加后輸出xl+1。
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