中核四0四有限公司吳鑫祥獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中核四0四有限公司申請的專利一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116179993B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211669134.3,技術領域涉及:C23C4/134;該發明授權一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法是由吳鑫祥;陳義武;周利華;華強;張會焱;王悅;王剛;杜昊設計研發完成,并于2022-12-23向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法在說明書摘要公布了:本發明屬于復合涂層制備技術領域,具體涉及一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法。本發明將等離子體噴涂后的片層結構進行激光重熔,降低涂層表面的孔隙率,激光熔覆后的涂層面再經過真空熱壓,熱壓后的涂層內部的孔隙大大減少,同時涂層與基體、涂層與涂層間形成冶金結合,激光熔覆和真空熱壓對涂層均有致密化作用,能大大提高現有等離子體噴涂涂層的各項性能。
本發明授權一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法在權利要求書中公布了:1.一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法,其特征在于:包括以下步驟: (1)對于石墨坩堝表面進行等離子體噴涂制備復合涂層,復合涂層包括MoY2O3、NbZrO2、NbY2O3中的一種或多種,基材預熱溫度50-300℃,功率30kW;送粉量1.35kgh,噴涂距離10-20cm,走槍速度6mms; (2)將等離子體噴涂后的片層結構進行激光重熔,在石墨坩堝直角過渡處安裝防裂板,降低涂層表面的孔隙率,激光熔覆工藝參數為:激光功率:255W;光斑尺寸:1-2mm;掃描速度:46mms;焦距:330mm;搭接率:50%; (3)對激光熔覆后的涂層進行真空熱壓;真空熱壓工藝參數為:采用真空燒結爐真空度控制在Pa量級,壓力設定在100kPa-6MPa。
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