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龍圖騰網獲悉湖南友哲科技有限公司申請的專利一種標本涂片裝置及其涂片方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115639044B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211301645.X，技術領域涉及：G01N1/31；該發明授權一種標本涂片裝置及其涂片方法是由梁光明;危加勝;劉濟群設計研發完成，并于2022-10-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種標本涂片裝置及其涂片方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種標本涂片裝置及其涂片方法，涉及醫療器械設備技術領域，包括試管架和涂片槍頭，試管架的頂端交替設置有試管放置腔和槍頭放置腔，試管架的底端設置有防錯限位槽、半球形定位孔和橫移限位避位槽，防錯限位槽設置在試管架底端的左右兩側，半球形定位孔均勻設置在試管架底端的前端面，橫移限位避位槽設置在試管架底面的中心，涂片槍頭設置在槍頭放置腔中，涂片槍頭包括槍頭本體，槍頭本體的外側設置有導向翼，導向翼與槍頭本體交界處設置有臺階邊，槍頭本體內部的頂端設置有針桿套位口，槍頭本體內部的底端設置有外涂片腔，外涂片腔的內部設置有內取樣腔，內取樣腔與槍頭本體相連通，本發明無需更換槍頭且減少了試管架空間的浪費。

本發明授權一種標本涂片裝置及其涂片方法在權利要求書中公布了：1.一種標本涂片裝置，其特征在于，包括試管架和涂片槍頭，所述試管架的頂端交替設置有試管放置腔和槍頭放置腔，所述試管架的底端設置有防錯限位槽、半球形定位孔和橫移限位避位槽，所述防錯限位槽設置在試管架底端的左右兩側，所述半球形定位孔均勻設置在試管架底端的前端面，所述橫移限位避位槽設置在試管架底面的中心位置，所述涂片槍頭設置在槍頭放置腔中，所述涂片槍頭包括槍頭本體，所述槍頭本體呈錐形，所述槍頭本體的外側設置有導向翼，所述導向翼與槍頭本體交界處設置有臺階邊，槍頭本體內部的頂端設置有針桿套位口，槍頭本體內部的底端設置有外涂片腔，外涂片腔的內部設置有內取樣腔，內取樣腔與槍頭本體相連通； 所述試管放置腔的前端設置有取樣端腔體，所述槍頭放置腔的后端設置有混勻端腔體； 所述槍頭放置腔從上到下依次設置有與導向翼相配合的導向腔、與臺階邊相配合的槍頭放置臺階、槍頭前端避空腔。

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