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龍圖騰網獲悉細美事有限公司申請的專利用于處理基板的裝置和用于處理基板的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115513031B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210724677.4，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權用于處理基板的裝置和用于處理基板的方法是由洪鎮熙;崔圣慜;金潤相;全珉星;全瑛恩;張東榮設計研發完成，并于2022-06-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于處理基板的裝置和用于處理基板的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及用于處理基板的裝置和用于處理基板的方法。基板處理裝置包括：腔室，其提供處理空間；支承單元，其在處理空間處支承基板；氣體供應單元，其被配置為將氣體引入到處理空間；等離子體源，其被配置為提供用于將引入到處理空間的氣體激發成等離子體的能量；排放單元，其被配置為將處理空間內的氣氛排放到處理空間的外側；以及加熱源，其定位在支承單元的上方，并且其中，加熱源將加熱能量以脈沖形式施加到基板。

本發明授權用于處理基板的裝置和用于處理基板的方法在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，所述基板處理裝置包括： 腔室，所述腔室提供處理空間； 支承單元，所述支承單元在所述處理空間處支承基板； 氣體供應單元，所述氣體供應單元被配置為將氣體引入到所述處理空間； 等離子體源，所述等離子體源被配置為提供用于將引入到所述處理空間的氣體激發成等離子體的能量； 排放單元，所述排放單元被配置為將所述處理空間內的氣氛排放到所述處理空間的外側；以及 加熱源，所述加熱源定位在所述支承單元的上方，并且 其中，所述加熱源將加熱能量以脈沖形式施加到所述基板； 其中，所述等離子體源包括： 頂部電極，所述頂部電極包括傳輸光或微波的第一板、和堆疊在所述第一板處的透明導電膜； 底部電極，所述底部電極設置在所述基板的下方；以及 高頻電源，所述高頻電源將高頻功率施加到所述頂部電極或所述底部電極中的至少一者，并且 其中，所述加熱源設置在所述頂部電極的上方； 所述基板處理裝置還包括控制器，并且 其中，所述控制器被配置為執行： 第一步驟，所述第一步驟為控制所述氣體供應單元將第一工藝氣體引入到所述處理空間，并且控制所述等離子體源將已經被引入的所述第一工藝氣體激發成等離子體以處理所述基板； 第二步驟，所述第二步驟為控制所述氣體供應單元將吹掃氣體引入到所述處理空間，并且控制所述排放單元對所述處理空間進行排放； 第三步驟，所述第三步驟為控制所述氣體供應單元將第二工藝氣體引入到所述處理空間，控制所述等離子體源將已經被引入的所述第二工藝氣體激發成所述等離子體，并且控制所述加熱源以脈沖施加所述加熱能量來處理所述基板；以及 第四步驟，所述第四步驟為控制所述氣體供應單元將所述吹掃氣體引入到所述處理空間，并且控制所述排放單元對所述處理空間進行排放，并且 其中，所述第一步驟至所述第四步驟被控制為依序重復多次。

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