西北工業(yè)大學(xué)肖發(fā)俊獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉西北工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種基于金屬納米線等離激元微腔的折射率傳感器獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN114755199B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210397202.9,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01N21/41;該發(fā)明授權(quán)一種基于金屬納米線等離激元微腔的折射率傳感器是由肖發(fā)俊;刁航;王其發(fā);李晨陽(yáng);趙建林設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-04-15向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種基于金屬納米線等離激元微腔的折射率傳感器在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明涉及一種基于金屬納米線等離激元微腔的折射率傳感器,主要包括基底、金屬膜、金屬納米線,所述基底、金屬膜均為層片狀,金屬膜位于基底和金屬納米線之間,基底、金屬膜兩層相接,金屬納米線為正五棱柱,位于金屬膜的另一側(cè),且正五棱柱一個(gè)柱面與金屬膜相接;兩條金屬納米線平行放置。基底的材質(zhì)為硅或者藍(lán)寶石,金屬膜的材質(zhì)為金或者銀,金屬納米線的材質(zhì)為金或者銀。本發(fā)明的微腔結(jié)構(gòu),通過(guò)對(duì)腔長(zhǎng)進(jìn)行調(diào)制,可以靈活地針對(duì)不同尺寸的二維材料進(jìn)行傳感測(cè)試,具有靈活可調(diào)的優(yōu)勢(shì)。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)便,使用斜入射p偏振白光激發(fā),激發(fā)條件簡(jiǎn)單。金屬納米線、二維材料和腔長(zhǎng)尺寸均為微米量級(jí),利于集成化應(yīng)用。
本發(fā)明授權(quán)一種基于金屬納米線等離激元微腔的折射率傳感器在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種基于金屬納米線等離激元微腔的折射率傳感器,其特征在于,主要包括基底1、金屬膜2、金屬納米線3,所述基底1、所述金屬膜2均為層片狀,所述金屬膜2位于所述基底1和所述金屬納米線3之間,所述基底1、所述金屬膜2兩層相接,所述金屬納米線3為正五棱柱,位于所述金屬膜2的另一側(cè),且正五棱柱一個(gè)柱面與所述金屬膜2相接;兩條金屬納米線3平行放置; 所述折射率傳感器測(cè)量不同厚度石墨烯復(fù)折射率的過(guò)程如下: 步驟1,構(gòu)成微腔結(jié)構(gòu) 將不同厚度的石墨烯分別置于金屬膜2與金屬納米線3之間,金屬納米線3平行放置構(gòu)成平行腔結(jié)構(gòu); 步驟2,采集散射光譜; 使用光譜儀,在不同厚度的石墨烯上分別采集微腔結(jié)構(gòu)中金屬納米線3的散射光譜,并改變兩條平行金屬納米線3之間的距離,采集不同腔長(zhǎng)條件下的散射光譜; 步驟3,計(jì)算相對(duì)調(diào)制深度; 由步驟2得到的光譜數(shù)據(jù),通過(guò)計(jì)算可得到一定波長(zhǎng)下,某一厚度的石墨烯上微腔間距不同時(shí)的相對(duì)調(diào)制深度 步驟4,計(jì)算SPP的傳播長(zhǎng)度LSPP; 相對(duì)調(diào)制深度與傳播長(zhǎng)度LSPP的關(guān)系由式1給出,通過(guò)擬合可得到LSPP; 式1中,是相對(duì)調(diào)制深度,r是SPP在腔壁處的端面反射率,LSPP是SPP的傳播長(zhǎng)度,l是腔長(zhǎng),即兩根平行金屬納米線之間的間距; 由式1,通過(guò)計(jì)算,得到SPP的傳播長(zhǎng)度LSPP; 步驟5,計(jì)算有效折射率虛部 SPP傳播長(zhǎng)度與有效折射率虛部Imneff的關(guān)系如下: 式2中,λ為測(cè)量相對(duì)調(diào)制深度時(shí)選擇的波長(zhǎng); 由式2計(jì)算,得到不同厚度石墨烯對(duì)應(yīng)的有效折射率虛部Imneff; 步驟6,求取復(fù)折射率; 有效折射率虛部與復(fù)介電函數(shù)的關(guān)系如下: 式3中,λ0是自由空間波長(zhǎng),εm是金膜的復(fù)介電函數(shù),εvac是真空中的介電常數(shù),εd是石墨烯的復(fù)介電函數(shù),h為石墨烯厚度; 依據(jù)式3,可求取石墨烯的復(fù)介電函數(shù)εd; 復(fù)介電函數(shù)與復(fù)折射率實(shí)部、虛部的關(guān)系如下: εd=n2-k2+2nk*i4 式4中,n為石墨烯折射率的實(shí)部,k為石墨烯折射率的虛部、i為虛數(shù)單位; 根據(jù)石墨烯的復(fù)介電函數(shù)εd,由式4,可求出石墨烯折射率的實(shí)部n、虛部k。 至此,得到石墨烯的復(fù)折射率。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人西北工業(yè)大學(xué),其通訊地址為:710072 陜西省西安市友誼西路127號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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