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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利液體處理裝置以及液體處理裝置的控制方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN111916343B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202010348906.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/027；該發(fā)明授權(quán)液體處理裝置以及液體處理裝置的控制方法是由佐佐木新二設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-04-28向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本液體處理裝置以及液體處理裝置的控制方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明涉及液體處理裝置以及液體處理裝置的控制方法，其能夠?qū)λ腿胍后w處理裝置為止的受到來(lái)自于氣氛的溫度影響的基板進(jìn)行均勻的液體處理。一種液體處理裝置，其向基板供給處理液來(lái)對(duì)該基板進(jìn)行處理，其中，該液體處理裝置具有：卡盤(pán)，其能夠保持所述基板并使其旋轉(zhuǎn)；以及卡盤(pán)溫度調(diào)整構(gòu)件，其能夠向相對(duì)于所述卡盤(pán)靠近或接觸的靠近位置和與所述靠近位置相比遠(yuǎn)離所述卡盤(pán)的退避位置移動(dòng)。

本發(fā)明授權(quán)液體處理裝置以及液體處理裝置的控制方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種液體處理裝置，其向基板供給處理液來(lái)對(duì)該基板進(jìn)行處理，其中， 該液體處理裝置具有： 卡盤(pán)，其能夠保持所述基板并使其旋轉(zhuǎn)； 卡盤(pán)溫度調(diào)整構(gòu)件，其能夠向相對(duì)于所述卡盤(pán)靠近或接觸的靠近位置和與所述靠近位置相比遠(yuǎn)離所述卡盤(pán)的退避位置移動(dòng)；以及 控制部，其對(duì)使所述卡盤(pán)溫度調(diào)整構(gòu)件靠近或接觸所述卡盤(pán)而進(jìn)行所述卡盤(pán)的溫度調(diào)整的作業(yè)和使所述卡盤(pán)溫度調(diào)整構(gòu)件遠(yuǎn)離所述卡盤(pán)而不進(jìn)行所述卡盤(pán)的溫度調(diào)整的作業(yè)進(jìn)行切換， 其中，所述控制部構(gòu)成為：在不對(duì)所述基板進(jìn)行處理的待機(jī)時(shí)，使所述卡盤(pán)溫度調(diào)整構(gòu)件靠近或接觸未保持有所述基板的所述卡盤(pán)而進(jìn)行所述卡盤(pán)的溫度調(diào)整的作業(yè)；以及在對(duì)所述基板進(jìn)行處理時(shí)，使所述卡盤(pán)溫度調(diào)整構(gòu)件遠(yuǎn)離所述卡盤(pán)而不進(jìn)行所述卡盤(pán)的溫度調(diào)整的作業(yè)，并使所述基板保持于所述卡盤(pán)，向該基板供給所述處理液。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。