杭州卡淶復(fù)合材料科技有限公司方益清獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉杭州卡淶復(fù)合材料科技有限公司申請的專利基于等離子及軌跡控制的自動清洗方法及系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN120205544B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510686558.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:B08B7/00;該發(fā)明授權(quán)基于等離子及軌跡控制的自動清洗方法及系統(tǒng)是由方益清;閆海濤;張亮;司大龍設(shè)計研發(fā)完成,并于2025-05-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本基于等離子及軌跡控制的自動清洗方法及系統(tǒng)在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供基于等離子及軌跡控制的自動清洗方法及系統(tǒng),涉及控制技術(shù)領(lǐng)域,包括通過獲取工件三維模型,提取深度信息,基于主曲率值將工件表面劃分為平面、凸面和凹面區(qū)域,針對不同區(qū)域設(shè)定差異化軌跡密度參數(shù),并設(shè)置軌跡過渡帶,結(jié)合法向量計算機(jī)器人姿態(tài)角度,最終生成包含位姿信息的軌跡數(shù)據(jù)及等離子清洗工藝參數(shù)。本發(fā)明實現(xiàn)了對復(fù)雜表面的精準(zhǔn)清洗,提高了清洗效率和質(zhì)量。
本發(fā)明授權(quán)基于等離子及軌跡控制的自動清洗方法及系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了:1.基于等離子及軌跡控制的自動清洗方法,其特征在于,包括: 獲取待清洗工件的三維數(shù)字模型,對所述三維數(shù)字模型進(jìn)行網(wǎng)格劃分得到待清洗工件表面的網(wǎng)格劃分?jǐn)?shù)據(jù),基于所述網(wǎng)格劃分?jǐn)?shù)據(jù)提取待清洗工件表面的深度信息; 基于所述深度信息對應(yīng)的梯度信息確定主曲率值,將所述主曲率值與當(dāng)前曲率數(shù)據(jù)的差值作為曲率分割度,根據(jù)曲率分割度與預(yù)設(shè)閾值的比較結(jié)果將待清洗工件表面劃分為平面區(qū)域、凸面區(qū)域和凹面區(qū)域; 根據(jù)所述待清洗工件表面的區(qū)域劃分結(jié)果,針對不同類型區(qū)域設(shè)定差異化的軌跡密度參數(shù),生成機(jī)器人初始清洗軌跡,其中平面區(qū)域的軌跡密度參數(shù)設(shè)定為基準(zhǔn)值,凸面區(qū)域的軌跡密度參數(shù)按照曲率值線性增加,凹面區(qū)域的軌跡密度參數(shù)按照曲率值指數(shù)增加;同時在相鄰區(qū)域之間設(shè)置軌跡過渡帶,所述軌跡過渡帶的密度參數(shù)通過相鄰區(qū)域密度參數(shù)的加權(quán)平均確定; 基于所述機(jī)器人初始清洗軌跡,結(jié)合各區(qū)域的法向量計算機(jī)器人在每個軌跡點的姿態(tài)角度,生成包含位姿信息的機(jī)器人運動軌跡數(shù)據(jù),并根據(jù)待清洗工件的材料特性設(shè)定每個軌跡點對應(yīng)的等離子清洗工藝參數(shù)。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人杭州卡淶復(fù)合材料科技有限公司,其通訊地址為:311107 浙江省杭州市余杭區(qū)仁和街道啟航路80號1幢1樓101室;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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