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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海微電機研究所(中國電子科技集團公司第二十一研究所)申請的專利一種表面缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及其存儲介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN117197081B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202311158805.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T7/00；該發(fā)明授權(quán)一種表面缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及其存儲介質(zhì)是由王兆廣;祝魯寧;杜文斌;何春來;王衛(wèi)軍設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-09-08向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種表面缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及其存儲介質(zhì)在說明書摘要公布了：本申請公開了一種表面缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及其存儲介質(zhì)，涉及缺陷檢測技術(shù)領(lǐng)域。所述方法包括：基于初始圖像、平移窗口和平移步長，獲取多個子圖像；基于多個子圖像，獲取與各個子圖像相對應(yīng)的缺陷檢測框；基于各個缺陷檢測框，獲取缺陷檢測結(jié)果。本申請通過將尺寸較大的初始圖像分割成為多個尺寸較小的子圖像，以使現(xiàn)有技術(shù)中的表面缺陷檢測方法能夠適用于各個尺寸較小的子圖像。獲取各個子圖像獲取表面缺陷檢測結(jié)果后，再將各個子圖像的表面缺陷檢測結(jié)果融合形成初始圖像的表面缺陷檢測結(jié)果。以解決現(xiàn)有技術(shù)中的表面缺陷檢測方法不適用于尺寸較大的初始圖像的表面缺陷檢測的技術(shù)問題。

本發(fā)明授權(quán)一種表面缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及其存儲介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種表面缺陷檢測方法，其特征在于，所述方法包括： 基于初始圖像、平移窗口和平移步長，獲取多個子圖像；所述平移窗口的長度小于所述初始圖像的長度，且所述平移窗口的高度小于所述初始圖像的高度；所述初始圖像預(yù)先獲取；所述平移窗口和所述平移步長預(yù)先設(shè)定或者基于所述初始圖像生成；所述平移窗口沿所述初始圖像長度方向上的平移步長小于等于所述平移窗口的長度；所述平移窗口沿所述初始圖像高度方向上的平移步長小于等于所述平移窗口的高度； 基于多個子圖像，獲取與各個子圖像相對應(yīng)的缺陷檢測框； 基于各個缺陷檢測框，獲取缺陷檢測結(jié)果； 所述基于各個缺陷檢測框，獲取缺陷檢測結(jié)果包括： 基于各個缺陷檢測框，獲取至少一個缺陷檢測分組；每個缺陷檢測分組中至少具有一個缺陷檢測框，且每個缺陷檢測分組中的各個缺陷檢測框的缺陷標(biāo)簽相同； 獲取第一缺陷檢測分組；所述第一缺陷檢測分組為各個缺陷檢測分組中未進行冗余比對處理的分組； 獲取所述第一缺陷檢測分組中各個缺陷檢測框的置信度； 基于各個缺陷檢測框的置信度，更新所述第一缺陷檢測分組，獲取當(dāng)前缺陷檢測分組； 基于各個當(dāng)前缺陷檢測分組中的各個缺陷檢測框，獲取缺陷檢測結(jié)果； 所述基于各個缺陷檢測框的置信度，更新所述第一缺陷檢測分組，獲取當(dāng)前缺陷檢測分組包括： 基于各個缺陷檢測框的置信度，獲取第一缺陷檢測框；所述第一缺陷檢測框為所述第一缺陷檢測分組中未進行交互比對處理的，且置信度最高的缺陷檢測框； 基于所述第一缺陷檢測框，按照置信度由高到低的順序，依次獲取所述第一缺陷檢測分組中各個缺陷檢測框與所述第一缺陷檢測框的交互比； 所述交互比是指兩個區(qū)域交集區(qū)域面積與并集區(qū)域面積的比值； 若缺陷檢測框的交互比大于第一閾值，則刪除該缺陷檢測框，直至所述第一缺陷檢測分組中所有的缺陷檢測框均進行交互比對處理后，更新所述第一缺陷檢測分組，獲取第二缺陷檢測分組，所述第一閾值預(yù)先設(shè)定； 基于所述第二缺陷檢測分組，獲取所述當(dāng)前缺陷檢測分組； 所述基于所述第二缺陷檢測分組，獲取所述當(dāng)前缺陷檢測分組包括： 基于所述第二缺陷檢測分組，獲取第二缺陷檢測框和第三缺陷檢測框；所述第二缺陷檢測框和所述第三缺陷檢測框為所述第二缺陷檢測分組中未進行重疊比對處理的缺陷檢測框； 基于所述第二缺陷檢測框和所述第三缺陷檢測框，獲取所述第二缺陷檢測框的重疊比和所述第三缺陷檢測框的重疊比； 所述重疊比是指兩個缺陷檢測框之間所形成的重疊區(qū)域與該缺陷檢測框的面積比值； 若所述第三缺陷檢測框的重疊比大于第二閾值，且所述第二缺陷檢測框的重疊比小于第二閾值，則刪除所述第三缺陷檢測框；若所述第二缺陷檢測框的重疊比大于第二閾值，且所述第三缺陷檢測框的重疊比小于第二閾值，則刪除所述第二缺陷檢測框；直至所述第二缺陷檢測分組中所有的缺陷檢測框均進行重疊比對處理后，更新所述第二缺陷檢測分組，獲取第三缺陷檢測分組，所述第二閾值預(yù)先設(shè)定； 基于所述第三缺陷檢測分組，獲取所述當(dāng)前缺陷檢測分組。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人上海微電機研究所(中國電子科技集團公司第二十一研究所)，其通訊地址為：200233 上海市徐匯區(qū)虹漕路30號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。