哈爾濱工業(yè)大學(xué)應(yīng)濤獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉哈爾濱工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種射線追蹤法中計(jì)算最短屏蔽深度的方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115186568B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210769946.9,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G06F30/25;該發(fā)明授權(quán)一種射線追蹤法中計(jì)算最短屏蔽深度的方法是由應(yīng)濤;李興冀;祝赫;楊劍群;劉中利設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-06-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種射線追蹤法中計(jì)算最短屏蔽深度的方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明提供了一種射線追蹤法中計(jì)算最短屏蔽深度的方法,屬于衛(wèi)星空間環(huán)境分析技術(shù)領(lǐng)域。方法包括:S1、修改和編譯GEANT4框架;S2、繼承特定類,實(shí)現(xiàn)所述特定類中的相關(guān)函數(shù);S3、計(jì)算所述射線每一步路徑的垂直路徑步長(zhǎng)和斜線路徑步長(zhǎng);S4、取所述垂直路徑步長(zhǎng)和所述斜線路徑步長(zhǎng)間的較小者,乘以材料密度,得到該步路徑的屏蔽深度,累加所述射線各步路徑的所述屏蔽深度,形成該條所述射線的最短屏蔽深度。本發(fā)明借助GEANT4軟件實(shí)現(xiàn)了按照直線路徑前行,但按垂直于入射方向進(jìn)行屏蔽深度累加的方式,可保證計(jì)算的路徑位于參與分析的空間之內(nèi),且屏蔽深度結(jié)果小于或等于直線走法,能夠更加準(zhǔn)確的評(píng)估電子等粒子的屏蔽深度。
本發(fā)明授權(quán)一種射線追蹤法中計(jì)算最短屏蔽深度的方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種射線追蹤法中計(jì)算最短屏蔽深度的方法,其特征在于,應(yīng)用于分析敏感元器件受到的輻射劑量,所述的方法包括以下步驟: S1、修改和編譯GEANT4框架以使路徑估計(jì)函數(shù)不會(huì)干預(yù)內(nèi)部路徑狀態(tài); S2、繼承特定類,實(shí)現(xiàn)所述特定類中的相關(guān)函數(shù)以對(duì)射線的路徑長(zhǎng)度進(jìn)行計(jì)算和存儲(chǔ); S3、計(jì)算所述射線每一步路徑的垂直路徑步長(zhǎng)和斜線路徑步長(zhǎng); S4、取所述垂直路徑步長(zhǎng)和所述斜線路徑步長(zhǎng)間的較小者,乘以材料密度,得到該步路徑的屏蔽深度,累加所述射線各步路徑的所述屏蔽深度,形成所述射線的最短屏蔽深度。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人哈爾濱工業(yè)大學(xué),其通訊地址為:150000 黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)西大直街92號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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