科磊股份有限公司R·弗克維奇獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！
龍圖騰網獲悉科磊股份有限公司申請的專利使用組合光學與電子束技術的偏移測量獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113366619B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：201980091117.6，技術領域涉及：H01L21/66；該發(fā)明授權使用組合光學與電子束技術的偏移測量是由R·弗克維奇;L·葉魯舍米;N·古特曼設計研發(fā)完成，并于2019-06-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本使用組合光學與電子束技術的偏移測量在說明書摘要公布了：本發(fā)明揭示一種用于制造半導體裝置晶片的偏移計量系統(tǒng)，其包含：光學偏移計量工具，其經配置以測量選自旨在相同的一批半導體裝置晶片的半導體裝置的兩個層之間的至少一個目標處的偏移；電子束偏移計量工具，其經配置以測量選自所述批的半導體裝置的兩個層之間的所述至少一個目標處的偏移；及組合器，其可操作以組合所述光學偏移計量工具及所述電子束偏移計量工具的輸出以提供組合偏移度量。
本發(fā)明授權使用組合光學與電子束技術的偏移測量在權利要求書中公布了：1.一種用于制造半導體裝置晶片的偏移計量系統(tǒng)，其包括： 光學偏移計量工具，其經配置以測量選自旨在相同的一批半導體裝置晶片的半導體裝置的兩個層之間的至少一個目標處的偏移； 電子束偏移計量工具，其經配置以測量選自所述批的半導體裝置的兩個層之間的所述至少一個目標處的偏移；及 組合器，其用于組合所述光學偏移計量工具及所述電子束偏移計量工具的輸出以提供組合偏移度量，其中所述光學偏移計量工具及所述電子束偏移計量工具的所述輸出是在同一制造過程中測量的。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人科磊股份有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網官方客服，聯(lián)系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號