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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海華力微電子有限公司申請的專利缺陷監(jiān)控方法及缺陷監(jiān)控系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115170495B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210744426.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T7/00；該發(fā)明授權(quán)缺陷監(jiān)控方法及缺陷監(jiān)控系統(tǒng)是由韓俊偉設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-06-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本缺陷監(jiān)控方法及缺陷監(jiān)控系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種缺陷監(jiān)控方法及缺陷監(jiān)控系統(tǒng)，缺陷監(jiān)控方法包括：建立數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫：逐層采集測試晶圓的第一光學(xué)圖像，人為定義滋擾性缺陷，對存在所述滋擾性缺陷的第一光學(xué)圖像進行數(shù)字分析，并將得到的第一數(shù)字信號存儲至所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)；采集監(jiān)控晶圓的第二光學(xué)圖像并進行數(shù)字分析，輸出所述監(jiān)控晶圓的第二數(shù)字信號，并將所述第二數(shù)字信號與所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)的第一數(shù)字信號進行比對，若所述第二數(shù)字信號與所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)的某一所述第一數(shù)字信號相同，則過濾掉所述第二光學(xué)圖像。通過建立數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫以及采用數(shù)字信號分析比對的方式來對缺陷進行過濾，智能高效，精準(zhǔn)度高，有效提高了晶圓的良率。

本發(fā)明授權(quán)缺陷監(jiān)控方法及缺陷監(jiān)控系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種缺陷監(jiān)控方法，其特征在于，包括： 建立數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫：逐層采集測試晶圓的第一光學(xué)圖像，人為定義滋擾性缺陷，對存在所述滋擾性缺陷的第一光學(xué)圖像進行數(shù)字分析，并將得到的第一數(shù)字信號存儲至所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)； 采集監(jiān)控晶圓的第二光學(xué)圖像并進行數(shù)字分析，輸出所述監(jiān)控晶圓的第二數(shù)字信號，并將所述第二數(shù)字信號與所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)的第一數(shù)字信號進行比對，若所述第二數(shù)字信號與所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)的某一所述第一數(shù)字信號相同，則過濾掉所述第二光學(xué)圖像； 所述缺陷監(jiān)控方法還包括： 對所述第一數(shù)字信號進行分析，得到所述第一數(shù)字信號的變化范圍； 若所述第二數(shù)字信號與所述數(shù)字信號數(shù)據(jù)庫內(nèi)任一所述第一數(shù)字信號均不相同，則進一步判斷所述第二數(shù)字信號是否位于某一所述第一數(shù)字信號的變化范圍內(nèi)，若是，則過濾掉所述第二光學(xué)圖像，若否，則輸出所述監(jiān)控晶圓的缺陷分布圖。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人上海華力微電子有限公司，其通訊地址為：201314 上海市浦東新區(qū)良騰路6號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。