西安應用光學研究所王松林獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉西安應用光學研究所申請的專利一種光學基底表面ITO薄膜的高效去除方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114649195B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210231012.X，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權一種光學基底表面ITO薄膜的高效去除方法是由王松林;張建付;楊崇民;劉青龍;米高園;昌明;李明偉;陶忠設計研發完成，并于2022-03-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種光學基底表面ITO薄膜的高效去除方法在說明書摘要公布了：本發明屬于光學技術領域，具體涉及一種光學基底表面ITO薄膜的高效去除方法,該方法將將鋅粉或鋁粉大致均勻地撒在鍍有ITO薄膜的光學基底表面；用軟性耐腐蝕物蘸取鹽酸對ITO薄膜表面反復均勻擦拭，然后將擦拭好的光學基底放在清水槽中用超聲波清洗，去除表面水分。該方法對于光學基底表面鍍制的ITO薄膜，能夠有效、快速地實現去除ITO薄膜，不易損傷光學基底表面。該方法不僅適用于化學穩定性較好的k9玻璃、石英玻璃等光學材料，同時也適用于ZnS、ZnSe、藍寶石、CaF2、BaF2等易腐蝕易損傷光學基底。
本發明授權一種光學基底表面ITO薄膜的高效去除方法在權利要求書中公布了：1.一種光學基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟： 步驟1：給將要去除的ITO薄膜表面撒適量的金屬粉； 步驟2：使用柔性且耐酸的工具，蘸取鹽酸液，在撒有金屬粉的ITO薄膜表面反復輕擦，使ITO薄膜被快速分解，同時不損傷光學基底表面； 步驟3：使用清水超聲波清洗去膜后的光學基底，并做脫水處理； 其中，所述步驟1中，所述金屬粉為易與鹽酸反應的金屬粉材料。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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