華為技術有限公司;益豐新材料股份有限公司王磊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華為技術有限公司;益豐新材料股份有限公司申請的專利光學聚合物及其制備方法、光學聚合物母粒、光學元件獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116376018B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111582968.6，技術領域涉及：C08G75/08；該發明授權光學聚合物及其制備方法、光學聚合物母粒、光學元件是由王磊;梁萬根;張建林;鄒海良;鐘軼良;曹飛羽設計研發完成，并于2021-12-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學聚合物及其制備方法、光學聚合物母粒、光學元件在說明書摘要公布了：本申請涉及光學材料技術領域，提供了一種光學聚合物及其制備方法、光學聚合物母粒、光學元件。所述光學聚合物由如下式1所示的聚合單體聚合形成，其中，g、h分別選自1～5的整數，且g、h中至少有一個為1；R1為環狀烴基、芳基結構中的一種；R2、R3、R4各自獨立地選自H、?CH3、?CH2CH3、Cl、I、Br中的一種；X為氧原子或硫原子；a、b、m、n、p各自單獨地選自0、1或2，且當X為氧原子時，a、b不同時為0；o為0或1。本申請提供的光學聚合物，在能夠保持良好的耐熱性能和較低的體積收縮率的同時，具有高折射率和高阿貝數的優點。
本發明授權光學聚合物及其制備方法、光學聚合物母粒、光學元件在權利要求書中公布了：1.一種光學聚合物，其特征在于，所述光學聚合物由如下式1所示的聚合單體聚合形成， 其中，g、h分別選自1～5的整數，且g、h中至少有一個為1； R1為含有或者不含有雜原子的環狀烴基、芳基結構中的一種； R2、R3、R4各自獨立地選自H、-CH3、-CH2CH3、Cl、I、Br中的一種； X為氧原子或者硫原子，且當g大于或等于2時，多個X各自獨立地選自氧原子或硫原子； a、b、m、n、p各自單獨地選自0、1或2，且a、b不同時為0； o為0或1，且當h大于或等于2時，多個-COoCR2＝CR3R4中的o各自獨立地選自0或1。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華為技術有限公司;益豐新材料股份有限公司，其通訊地址為：518129 廣東省深圳市龍崗區坂田華為總部辦公樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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