生益電子股份有限公司承良浩獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉生益電子股份有限公司申請的專利一種塞槽結構、階梯槽制作方法及階梯板獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115135012B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210743521.0,技術領域涉及:H05K3/00;該發明授權一種塞槽結構、階梯槽制作方法及階梯板是由承良浩;焦其正;王洪府;張志遠設計研發完成,并于2022-06-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種塞槽結構、階梯槽制作方法及階梯板在說明書摘要公布了:本發明涉及PCB技術領域,公開了一種塞槽結構、階梯槽制作方法及階梯板。塞槽結構包括阻鍍本體;阻鍍本體呈與槽體相匹配的凹槽結構,且阻鍍本體根據槽內圖形劃分為阻鍍功能區和鏤空區;阻鍍功能區,與槽體的內壁的非圖形制作區對應,用于阻擋沉銅電鍍藥水接觸非圖形制作區,以阻止非圖形制作區形成電鍍層;鏤空區,與槽體的內壁的圖形制作區對應,用于供沉銅電鍍藥水流通以接觸圖形制作區,以使圖形制作區形成電鍍層。由于塞槽結構的選擇性阻鍍結構制作簡單,制作精密度高且可控,同時塞槽操作簡單且對準精度較高,因此本發明實施例不僅大大簡化了制作工序,縮短了制作周期,降低了成本,而且能夠有效提高圖形制作精度,提升產品品質。
本發明授權一種塞槽結構、階梯槽制作方法及階梯板在權利要求書中公布了:1.一種塞槽結構,用于塞入擬制作槽內圖形的階梯槽的槽體,所述槽體的內壁根據所述槽內圖形劃分為圖形制作區和非圖形制作區;其特征在于,所述塞槽結構包括阻鍍本體; 所述阻鍍本體呈與所述槽體相匹配的凹槽結構,且所述阻鍍本體根據所述槽內圖形劃分為阻鍍功能區和鏤空區; 所述阻鍍功能區,與所述槽體的內壁的非圖形制作區對應,用于阻擋沉銅電鍍藥水接觸所述非圖形制作區,以阻止所述非圖形制作區形成電鍍層; 所述鏤空區,與所述槽體的內壁的圖形制作區對應,用于供沉銅電鍍藥水流通以接觸所述圖形制作區,以使所述圖形制作區形成電鍍層; 所述阻鍍本體為硬性塑膠; 所述阻鍍本體的阻鍍功能區的外壁設有與所述槽體的內壁的非圖形制作區相貼合的柔性外層。
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