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龍圖騰網(wǎng)獲悉盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司申請的專利一種光刻膠去除方法及裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113031408B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201911359995.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/42；該發(fā)明授權(quán)一種光刻膠去除方法及裝置是由周飛;仰庶;張曉燕;陳福平;王暉設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-12-25向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種光刻膠去除方法及裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種光刻膠去除方法及裝置，該方法包括：濕法去膠步驟：采用基板片傳送裝置將基板片傳送到濕法去膠腔體中以去除基板片表面的光刻膠；缺陷檢測步驟：采用缺陷檢測裝置檢測基板片表面的光刻膠總殘留量，若光刻膠總殘留量低于預(yù)設(shè)值，則進(jìn)行下一基板片的濕法去膠步驟及缺陷檢測步驟；若光刻膠總殘留量高于預(yù)設(shè)值，則進(jìn)行去膠返工步驟，并重復(fù)所述缺陷檢測步驟；其中，所述去膠返工步驟包括：采用基板片傳送裝置將所述基板片再次傳送到所述濕法去膠腔體中以去除所述基板片表面殘留的光刻膠。本發(fā)明可以在線檢測基板片是否存在光刻膠殘留，根據(jù)光刻膠殘留區(qū)域的分布及光刻膠的殘留量自動選擇返工時間和噴液管擺臂程序，從而提升返工效率。

本發(fā)明授權(quán)一種光刻膠去除方法及裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光刻膠去除方法，其特征在于，包括以下步驟： 濕法去膠步驟：采用基板片傳送裝置將基板片傳送到濕法去膠腔體中以去除所述基板片表面的光刻膠； 缺陷檢測步驟：采用缺陷檢測裝置檢測所述基板片表面的光刻膠總殘留量，若光刻膠總殘留量低于預(yù)設(shè)值，則進(jìn)行下一基板片的濕法去膠步驟及缺陷檢測步驟；若光刻膠總殘留量高于預(yù)設(shè)值，則進(jìn)行去膠返工步驟，并重復(fù)所述缺陷檢測步驟； 去膠返工所需時間計算步驟：基于光刻膠殘留量或光刻膠殘留區(qū)域的分布計算去膠返工所需時間； 其中，所述去膠返工步驟包括：采用所述基板片傳送裝置將所述基板片再次傳送到所述濕法去膠腔體中，基于所述去膠返工所需時間控制所述基板片在所述濕法去膠腔體中的去膠返工時間以去除所述基板片表面殘留的光刻膠。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)蔡倫路1690號第4幢；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。