西默有限公司D·H·巴恩哈特獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉西默有限公司申請的專利用于對準和診斷激光束的方法和裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN110892329B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201880046016.2,技術領域涉及:G03F7/20;該發明授權用于對準和診斷激光束的方法和裝置是由D·H·巴恩哈特設計研發完成,并于2018-07-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于對準和診斷激光束的方法和裝置在說明書摘要公布了:公開了用于以高度空間節省、低成本和或改造友好的方式對準和診斷穿過光具組的激光束的方法和裝置。光具組的光學組件被安裝成使得一個或多個光學組件可以引導它們的出射激光束部分或全部地掃過一個或多個下游傳感器。除了別的之外,光學組件的物理設置與撞擊數據和或光束質量數據的點之間的相關性數據還用于對準和或診斷激光束和或定位故障部位和或優化維護時間表。
本發明授權用于對準和診斷激光束的方法和裝置在權利要求書中公布了:1.一種用于優化光刻系統中的激光束的方法,所述激光束穿過包括多個光學組件的光具組,所述方法包括: 使用所述多個光學組件中的第一光學組件進行光柵化,使得響應于使用所述第一光學組件進行的所述光柵化,離開所述第一光學組件的所述激光束至少部分掃過第一傳感器; 使用在使用所述第一光學組件進行的所述光柵化期間從所述第一傳感器獲取的數據,在所述第一光學組件的物理設置與所述激光束的撞擊點之間形成相關性; 使用從所述相關性獲取的數據來確認所述第一光學組件的第一物理設置,所述第一物理設置將引起離開所述第一光學組件的所述激光束的所述撞擊點撞擊第二光學組件上的期望點;以及 通過根據所述第一物理設置對準所述第一光學組件,相對于所述第二光學組件對準離開所述第一光學組件的所述激光束。
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