浙江格源新材料科技有限公司曹偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉浙江格源新材料科技有限公司申請的專利一種基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳的制備方法及硅碳負極獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120348933B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510803853.7，技術領域涉及：C01B32/05；該發明授權一種基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳的制備方法及硅碳負極是由曹偉;任天論;代志津;孫寧;徐泉設計研發完成，并于2025-06-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳的制備方法及硅碳負極在說明書摘要公布了：本發明涉及一種基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳的制備方法及硅碳負極，所述制備方法包括以下步驟：（S1）將多孔碳浸漬于含光敏劑的C1?C5鹵代烴溶液中，得到負載鹵代烴的多孔碳；（S2）將負載鹵代烴的多孔碳于惰性氣氛下進行光催化反應，經洗滌、干燥后得到改性多孔碳前體；（S3）將改性多孔碳前體于惰性氣氛下進行熱處理，得到基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳。本發明采用C1?C5鹵代烴通過鹵素原子轉移（XAT）反應在多孔碳的孔隙中引入碳自由基，然后通過熱處理形成無定型碳填充在超微孔中，從而解決了超微孔無法利用帶來的硅的有效沉積率低的問題以及不可逆嵌鋰的問題，進而改善了硅碳負極的電化學性能。
本發明授權一種基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳的制備方法及硅碳負極在權利要求書中公布了：1.一種基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： （S1）將多孔碳投入含光敏劑的C1-C5鹵代烴溶液中浸漬，浸漬結束后過濾、洗滌、干燥，得到負載鹵代烴的多孔碳；所述光敏劑為三2-苯基吡啶合銥、三聯吡啶氯化釕、2,4,5,6-四9-咔唑基-間苯二腈中的至少一種； （S2）將負載鹵代烴的多孔碳于惰性氣氛下進行光催化反應，經洗滌、干燥后得到改性多孔碳前體；所述光催化反應的條件為：波長200~800nm、光強50~150mWcm2的光源于20~50℃下光照1~5h； （S3）將改性多孔碳前體于惰性氣氛下進行熱處理，得到基于光催化鹵素原子轉移的改性多孔碳；所述熱處理的條件為：400~600℃保溫1~5h。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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