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      華燦光電(浙江)有限公司王群獲國家專利權(quán)

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      龍圖騰網(wǎng)獲悉華燦光電(浙江)有限公司申請的專利功率半導(dǎo)體器件及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN115394894B

      龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202210812168.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10H20/831;該發(fā)明授權(quán)功率半導(dǎo)體器件及其制備方法是由王群;龔逸品;陳張笑雄;王江波設(shè)計研發(fā)完成,并于2022-07-11向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

      功率半導(dǎo)體器件及其制備方法在說明書摘要公布了:本公開提供了一種功率半導(dǎo)體器件及其制備方法,屬于光電子制造技術(shù)領(lǐng)域。該功率半導(dǎo)體器件包括外延片、陽電極和陰電極;外延片包括襯底和依次形成在襯底上的緩沖層、U?GaN層、AlGaN層、GaN帽層和SiN保護(hù)層;陽電極和陰電極相互間隔,陽電極的第一端依次貫穿SiN保護(hù)層和GaN帽層并插接在AlGaN層內(nèi),陽電極朝向陰電極的一側(cè)相對于AlGaN層傾斜;陰電極的第一端依次貫穿SiN保護(hù)層和GaN帽層并插接在AlGaN層內(nèi),陰電極朝向陽電極的一側(cè)相對于AlGaN層傾斜。本公開能夠改善電場分布,有助于提高功率半導(dǎo)體器件的高溫可靠性。

      本發(fā)明授權(quán)功率半導(dǎo)體器件及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,包括外延片10、陽電極20和陰電極30; 所述外延片10包括襯底110和依次形成在所述襯底110上的緩沖層120、U-GaN層130、AlGaN層140、GaN帽層150和SiN保護(hù)層160; 所述陽電極20和所述陰電極30相互間隔,所述陽電極20的第一端依次貫穿所述SiN保護(hù)層160和所述GaN帽層150并插接在所述AlGaN層140內(nèi),所述陽電極20朝向所述陰電極30的一側(cè)相對于所述AlGaN層140傾斜,在所述陽電極20的第一端至第二端的方向上,所述陽電極20朝向所述陰電極30的一側(cè),朝向所述陰電極30傾斜,所述陽電極20的縱剖面為直角梯形,所述直角梯形的上底為所述陽電極20的第一端,所述直角梯形的下底為所述陽電極20的第二端,所述直角梯形的高背離所述陰電極30,且垂直于所述AlGaN層140,所述直角梯形的斜腰靠近所述陰電極30,且傾斜于所述AlGaN層140,所述直角梯形的斜腰為所述陽電極20傾斜的一側(cè); 所述陰電極30的第一端依次貫穿所述SiN保護(hù)層160和所述GaN帽層150并插接在所述AlGaN層140內(nèi),所述陰電極30朝向所述陽電極20的一側(cè)相對于所述AlGaN層140傾斜,在所述陰電極30的第二端至第一端的方向上,所述陰電極30朝向所述陽電極20的一側(cè),背離所述陽電極20傾斜,所述陰電極30的縱剖面為直角梯形,所述直角梯形的上底為所述陰電極30的第二端,所述直角梯形的下底為所述陰電極30的第一端,所述直角梯形的高背離所述陽電極20,且垂直于所述AlGaN層140,所述直角梯形的斜腰靠近所述陽電極20,且傾斜于所述AlGaN層140,所述直角梯形的斜腰為所述陰電極30傾斜的一側(cè); 所述陽電極20朝向所述陰電極30傾斜的一側(cè),與所述陰電極30朝向所述陽電極20傾斜的一側(cè)相互平行。

      如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人華燦光電(浙江)有限公司,其通訊地址為:322000 浙江省金華市義烏市蘇溪鎮(zhèn)蘇福路233號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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