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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利基板處理裝置和基板處理方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112786485B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011147776.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基板處理裝置和基板處理方法是由小佐井一樹;篠原和義設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-10-23向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基板處理裝置和基板處理方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種基板處理裝置和基板處理方法。提供一種能夠抑制在對(duì)基板處理部進(jìn)行了清洗處理之后液處理的性能惡化的技術(shù)。本公開的一形態(tài)的基板處理裝置具備基板處理部、排液部以及控制部。基板處理部從處理液供給部向所載置的基板供給處理液而進(jìn)行液處理。排液部具有與積存處理液的積存部連接的回收路徑，對(duì)液處理使用后的處理液進(jìn)行排液。控制部執(zhí)行液處理的處理制程以及清洗基板處理部和排液部的清洗制程。另外，作為清洗制程，控制部在執(zhí)行了從清洗液供給部供給清洗液而清洗基板處理部和排液部的清洗動(dòng)作之后，執(zhí)行從處理液供給部供給處理液而將附著于基板處理部和排液部的清洗液置換成處理液的恢復(fù)動(dòng)作。

本發(fā)明授權(quán)基板處理裝置和基板處理方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其中， 該基板處理裝置具備： 基板處理部，其從處理液供給部向所載置的基板供給處理液而進(jìn)行液處理； 排液部，其具有與積存所述處理液的積存部連接的回收路徑，對(duì)所述液處理使用后的所述處理液進(jìn)行排液；以及 控制部，其執(zhí)行所述液處理的處理制程以及清洗所述基板處理部和所述排液部的清洗制程， 作為所述清洗制程，所述控制部在執(zhí)行了從清洗液供給部供給清洗液而清洗所述基板處理部和所述排液部的清洗動(dòng)作之后，執(zhí)行從所述處理液供給部供給所述處理液而將附著于所述基板處理部和所述排液部的所述清洗液置換成所述處理液的恢復(fù)動(dòng)作， 所述排液部在與所述基板處理部連接的排液路徑具有檢測(cè)所述處理液的濃度的濃度傳感器，所述排液路徑經(jīng)由所述濃度傳感器與切換閥連接，所述切換閥能夠?qū)⒃谒雠乓郝窂街辛鲃?dòng)的排液的排出路徑在所述回收路徑和使所述處理液向外部排出的排放部之間進(jìn)行切換，所述控制部在執(zhí)行所述清洗制程的期間使向所述排液部流動(dòng)的排液從所述排放部向外部排出，并且基于由所述濃度傳感器檢測(cè)的所述處理液的濃度將所述切換閥從所述排放部切換為所述回收路徑，從而結(jié)束所述恢復(fù)動(dòng)作。

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