東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社松本直純獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN112346302B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202010770166.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G03F7/039;該發(fā)明授權(quán)正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜是由松本直純?cè)O(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2020-08-03向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明涉及正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。本發(fā)明的課題在于提供能夠形成截面形狀良好的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜且敏感度高的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由前述正型感光性樹脂組合物形成的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。解決手段是在正型感光性樹脂組合物中包含:Novolac樹脂A;含有醌二疊氮基的化合物B;作為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物的敏化劑C;和規(guī)定范圍內(nèi)的量的含有酚式羥基的樹脂D,其為Novolac樹脂A以外的重均分子量超過(guò)1000的樹脂。
本發(fā)明授權(quán)正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜在權(quán)利要求書中公布了:1.正型感光性樹脂組合物,其包含Novolac樹脂A、含有醌二疊氮基的化合物B、敏化劑C、和含有酚式羥基的樹脂D, 所述含有醌二疊氮基的化合物B組合包含下式B1表示的化合物、下式B2表示的化合物和下式B3表示的化合物, [化學(xué)式1] 式B1中,Rb1各自獨(dú)立地為碳原子數(shù)1以上且5以下的烷基,D各自獨(dú)立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,2+m個(gè)D中的至少一個(gè)為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,l及m各自獨(dú)立地為1或2, [化學(xué)式2] 式B2中,D各自獨(dú)立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,3個(gè)D中的至少一個(gè)為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基, [化學(xué)式3] 式B3中,Rb3各自獨(dú)立地為氫原子、或碳原子數(shù)1以上且6以下的烷基,Rb4各自獨(dú)立地為氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1以上且6以下的烷基、碳原子數(shù)1以上且6以下的烷氧基、或碳原子數(shù)3以上且6以下的環(huán)烷基,D各自獨(dú)立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,4個(gè)D中的至少一個(gè)為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基, 所述敏化劑C為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物, 所述含有酚式羥基的樹脂D為重均分子量為3000以上且15000以下的羥基苯乙烯的均聚物, 相對(duì)于所述Novolac樹脂A100質(zhì)量份而言,所述含有酚式羥基的樹脂D的含量為0.5質(zhì)量份以上且10質(zhì)量份以下。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社,其通訊地址為:日本神奈川縣;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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