應用材料公司安德烈·P·拉邦特獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉應用材料公司申請的專利形成變深度裝置結構的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113874983B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080037381.4,技術領域涉及:H01L21/027;該發明授權形成變深度裝置結構的方法是由安德烈·P·拉邦特;盧多維克·戈代;羅格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森設計研發完成,并于2020-05-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本形成變深度裝置結構的方法在說明書摘要公布了:本案公開了一種用于形成裝置結構的方法。形成裝置結構的方法包括使用循環蝕刻處理技術在裝置材料層中形成變深度結構。在變深度結構中形成多個裝置結構以在其中限定垂直或傾斜的裝置結構。使用蝕刻處理形成所述變深度結構以及垂直或傾斜的裝置結構。
本發明授權形成變深度裝置結構的方法在權利要求書中公布了:1.一種方法,包括: 在裝置材料上形成灰色調抗蝕劑,形成灰色調抗蝕劑的步驟包括: 在所述裝置材料之上設置抗蝕劑材料;和 使所述抗蝕劑材料顯影以形成灰色調圖案; 執行循環蝕刻處理,所述循環蝕刻處理包括: 使用對所述抗蝕劑材料具有選擇性的抗蝕劑蝕刻處理來蝕刻所述灰色調圖案的抗蝕劑段; 使用對所述裝置材料有選擇性的裝置圖案蝕刻處理來蝕刻所述裝置材料的裝置段;和 對所述灰色調圖案的隨后的抗蝕劑段重復所述抗蝕劑蝕刻處理,并蝕刻隨后的裝置段以形成裝置材料圖案,所述裝置材料圖案的頂表面具有梯度; 在所述裝置材料上設置硬掩模; 圖案化所述硬掩模以暴露所述裝置材料的多個段;和 蝕刻所述裝置材料的暴露段,以形成具有與所述梯度對應的變化深度的多個裝置結構。
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