上海隱冠半導體技術有限公司費金磊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海隱冠半導體技術有限公司申請的專利一種多軸干涉儀平行度檢測系統及檢測方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120333351B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510828963.9,技術領域涉及:G01B11/27;該發明授權一種多軸干涉儀平行度檢測系統及檢測方法是由費金磊;張晨設計研發完成,并于2025-06-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種多軸干涉儀平行度檢測系統及檢測方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種多軸干涉儀平行度檢測系統及檢測方法,檢測方法包括:激光束整形后被多軸干涉儀分為第一待檢測光束和第二待檢測光束;調整檢測模塊內相機鏡面與x方向垂直;檢測模塊得到第一待檢測光束和第二待檢測光束的近端成像信息和遠端成像信息;計算第二待檢測光束與第一待檢測光束的平行度;不平行時計算夾角進行角度補償。本發明通過近端和遠端的成像對比,精確測量多軸干涉儀的光束平行度,測量結果有效性強;同時設置反射模塊保證相機與第一待檢測光束的光軸之間垂直,提高測量準確性和有效性;另外光束匯合工裝匯聚光束,使相機對兩個待檢測光束成像時不需移動,提高檢測便捷性;最后設置成像光束半徑調整光束準直效果,提高檢測精度。
本發明授權一種多軸干涉儀平行度檢測系統及檢測方法在權利要求書中公布了:1.一種多軸干涉儀平行度檢測系統,其特征在于,所述檢測系統包括:光源模塊(11)、光束整形模塊(12)、多軸干涉儀(13)、檢測模塊(17)和計算模塊; 所述光源模塊(11)出射激光束(51)經過所述光束整形模塊(12)被整形為準直單偏振的入射光(55),所述入射光(55)入射所述多軸干涉儀(13)被分為n條光束,所述光束包括1條第一待檢測光束(56)和n-1條第二待檢測光束(57),n為大于等于2的整數;預設x方向,所述第一待檢測光束(56)的光軸與x方向平行; 所述檢測模塊(17)用于接收并測量所述第一待檢測光束(56)和所述第二待檢測光束(57)在近端位置區域(15)和遠端位置區域(16)內垂直于x方向的成像面上的近端成像信息和遠端成像信息;所述遠端位置區域(16)與所述多軸干涉儀(13)之間沿x方向上的距離大于所述近端位置區域(15)與所述多軸干涉儀(13)之間沿x方向上的距離; 所述計算模塊與所述檢測模塊(17)連接,用于根據所述近端成像信息和所述遠端成像信息得到所述第二待檢測光束(57)與所述第一待檢測光束(56)之間的平行度。
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