東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社三枝裕司獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利氣體處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115116893B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210229166.5,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/67;該發(fā)明授權(quán)氣體處理裝置是由三枝裕司;半田達(dá)也;笹原麗紅;旭健史郎;西村和晃;吉村章弘;古澤正樹設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-03-10向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本氣體處理裝置在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明涉及氣體處理裝置。提供一種能夠在使用含氟氣體和堿性氣體的氣體處理時(shí)抑制由于微粒而在基板產(chǎn)生缺陷的氣體處理裝置。對(duì)基板實(shí)施氣體處理的氣體處理裝置具有:腔室,其收容基板;氣體供給機(jī)構(gòu),其將含氟氣體和堿性氣體獨(dú)立地供給;以及氣體導(dǎo)入構(gòu)件,其使自氣體供給機(jī)構(gòu)供給來(lái)的含氟氣體與堿性氣體合流,并將含氟氣體與堿性氣體混合而成的混合氣體向腔室導(dǎo)入,氣體導(dǎo)入構(gòu)件的包含含氟氣體與堿性氣體的合流部位的部分由鋁類材料構(gòu)成,至少在包含合流部位的部分形成有樹脂涂層。
本發(fā)明授權(quán)氣體處理裝置在權(quán)利要求書中公布了:1.一種氣體處理裝置,其對(duì)基板實(shí)施氣體處理,其中, 該氣體處理裝置具有: 腔室,其收容基板; 氣體供給機(jī)構(gòu),其將含氟氣體和堿性氣體獨(dú)立地供給;以及 氣體導(dǎo)入構(gòu)件,其使自所述氣體供給機(jī)構(gòu)供給來(lái)的所述含氟氣體與所述堿性氣體合流,并將所述含氟氣體與堿性氣體混合而成的混合氣體向所述腔室導(dǎo)入, 所述氣體導(dǎo)入構(gòu)件的包含所述含氟氣體與所述堿性氣體的合流部位的部分由鋁類材料構(gòu)成, 至少在包含所述合流部位的部分形成有樹脂涂層, 其中,所述樹脂涂層形成于所述合流部位以及供所述含氟氣體與所述堿性氣體的混合氣體流通的部分, 其中,所述氣體導(dǎo)入構(gòu)件具有:主體,其由鋁類材料構(gòu)成;第1氣體導(dǎo)入部和第2氣體導(dǎo)入部,其分別導(dǎo)入所述含氟氣體和所述堿性氣體;以及氣體流路,其設(shè)于所述主體的內(nèi)部,具有所述合流部位,并且供所述混合氣體流通,所述樹脂涂層形成于所述主體的所述氣體流路的內(nèi)表面。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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