東京毅力科創株式會社濱康孝獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理方法和基板處理系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113192832B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110089464.4，技術領域涉及：H01L21/3065；該發明授權基板處理方法和基板處理系統是由濱康孝;新藤信明;米田滋設計研發完成，并于2021-01-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理方法和基板處理系統在說明書摘要公布了：本發明涉及一種基板處理方法和基板處理系統，能夠適當地對離子體處理后的基板進行除電處理。該基板處理方法用于對基板進行處理，包括以下工序：工序a，將所述基板載置在靜電吸盤上，并對所述靜電吸盤施加直流電壓，由此使所述基板吸附于所述靜電吸盤；工序b，對電極供給高頻電力，并利用非活性氣體來生成等離子體；工序c，停止對所述靜電吸盤施加所述直流電壓；以及工序d，使被供給到所述電極的所述高頻電力逐漸降低，并使該高頻電力為0W。
本發明授權基板處理方法和基板處理系統在權利要求書中公布了：1.一種基板處理方法，用于對基板進行處理，所述基板處理方法包括以下工序： 工序a，將所述基板載置在靜電吸盤上，并對所述靜電吸盤施加直流電壓，由此使所述基板吸附于所述靜電吸盤； 工序b，對電極供給高頻電力，并利用非活性氣體來生成等離子體； 工序c，停止對所述靜電吸盤施加所述直流電壓； 工序d，使被供給到所述電極的所述高頻電力逐漸降低，并使該高頻電力為0W， 在所述工序c與所述工序d之間還包括工序e，在該工序e中，使所述基板上升來使所述基板離開所述靜電吸盤。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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