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龍圖騰網獲悉蘇州威陌電子信息科技有限公司申請的專利曲面陣列快速成像方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113835222B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111264008.5，技術領域涉及：G02B27/00；該發明授權曲面陣列快速成像方法是由張繼龍;張繼康設計研發完成，并于2021-10-28向國家知識產權局提交的專利申請。

本曲面陣列快速成像方法在說明書摘要公布了：本發明涉及光學成像、微波成像、雷達探測、聲吶、超聲成像以及基于聲、光、電等媒介的目標探測、成像識別、無線通信技術領域，具體涉及一種曲面陣列快速成像方法及其在上述各領域中的應用。采用本發明方法，可以實現曲面陣列的快速成像，適用于各種非平面陣列以及共形陣列，能夠實現快速成像和目標檢測。此外，本發明方法還具有兼容性好、運算量小、成像效果佳、適用范圍廣等優點。

本發明授權曲面陣列快速成像方法在權利要求書中公布了：1.一種曲面陣列快速成像方法，其特征在于，所述方法基于透鏡成像原理，結合電磁場理論，根據天線陣列接收到的目標信號，通過單元信號的幅度、相位加權，采用高效并行算法，獲得目標對應的像場分布，其具體算法如下： ； 其中：j為虛數單位，e為歐拉常數，為像場分布，為陣列單元接收到的目標信號，A mn 為陣列單元幅度加權系數，為陣列單元聚焦相位加權系數，為陣列單元相位補償系數，為陣列單元掃描相位加權系數，M為x方向的陣列單元數量，N為y方向的陣列單元數量，（x m ，y n ）為陣列單元的坐標，（δ，σ）為像點的坐標，V為像距，即成像平面到陣列平面的距離，η為對象選擇性參數，根據成像系統的特性選擇不同的值，m、n分別為陣列單元x方向與y方向的序號，為波數，λ為波長，符號∑代表求和運算； 所述方法通過選擇不同的參數η值，可適用于不同的成像系統； 所述方法包括下述步驟： 步驟一：計算陣列單元幅度加權系數A mn ，對陣列單元信號進行幅度加權以降低副瓣電平； 步驟二：計算陣列單元聚焦相位加權系數，對陣列單元信號進行聚焦相位加權以實現成像聚焦； 步驟三：計算陣列單元相位補償系數，對陣列單元信號進行曲面陣列相位補償以改善成像性能，其中： 陣列單元相位補償系數的計算公式為： ； 其中，表示曲面陣列單元到理想陣列平面的距離誤差，所述理想陣列平面是指經過曲面陣列的中心，并且與曲面陣列法線方向相垂直的平面； 步驟四：計算陣列單元掃描相位加權系數，對陣列單元信號進行波束掃描相位加權以調整成像系統中心視角方向； 步驟五：采用高效并行算法，對陣列單元信號進行快速成像處理； 步驟六：解算像場坐標，對像場進行坐標反演獲得真實目標的位置。

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