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龍圖騰網(wǎng)獲悉長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115602607B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202110768540.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/768；該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)是由呂游設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-07-07向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明實(shí)施例提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法包括：提供基底，基底內(nèi)具有第一接觸層和第二接觸層；形成初始電連接層；形成下層掩膜層，下層掩膜層包括相鄰的第一圖案區(qū)和第二圖案區(qū)；在基底的上表面，兩個(gè)第一接觸層的正投影落入一個(gè)第一圖案區(qū)的正投影內(nèi)，一個(gè)第二接觸層的正投影落入一個(gè)第二圖案區(qū)的正投影內(nèi)；圖案化第一圖案區(qū)以形成兩個(gè)相互分立的第一子圖案區(qū)；刻蝕初始電連接層，以形成相互分立的第一電連接層和第二電連接層，第一電連接層對(duì)應(yīng)第一子圖案區(qū)，第二電連接層對(duì)應(yīng)第二圖案區(qū)。本發(fā)明實(shí)施例能夠降低半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)內(nèi)部發(fā)生短路的風(fēng)險(xiǎn)。

本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，包括： 提供基底，所述基底內(nèi)具有相互分立的至少兩個(gè)第一接觸層和至少一個(gè)第二接觸層； 形成初始電連接層，所述初始電連接層與所述第一接觸層和所述第二接觸層電連接； 在初始電連接層上形成下層掩膜層，所述下層掩膜層包括相互分立的至少一個(gè)第一圖案區(qū)和至少一個(gè)第二圖案區(qū)，所述第一圖案區(qū)與所述第二圖案區(qū)相鄰；在所述基底的上表面一個(gè)所述第二接觸層的正投影落入一個(gè)所述第二圖案區(qū)的正投影內(nèi)； 圖案化所述下層掩膜層的第一圖案區(qū)，以形成相互分立的至少兩個(gè)第一子圖案區(qū)，其中，一個(gè)所述第一子圖案區(qū)位于所述第二圖案區(qū)與另一所述第一子圖案區(qū)之間；在所述基底的上表面，一個(gè)所述第一接觸層的正投影落入一個(gè)所述第一子圖案區(qū)的正投影內(nèi)； 以所述下層掩膜層為掩膜，刻蝕所述初始電連接層以形成相互分立的至少兩個(gè)第一電連接層和至少一個(gè)第二電連接層，每一所述第一電連接層與每一所述第一子圖案區(qū)一一對(duì)應(yīng)且電連接到對(duì)應(yīng)的所述第一接觸層，每一所述第二電連接層與每一所述第二圖案區(qū)一一對(duì)應(yīng)且電連接到對(duì)應(yīng)的所述第二接觸層。

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