臺灣積體電路制造股份有限公司李泳福獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉臺灣積體電路制造股份有限公司申請的專利光刻系統和方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113791520B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110560714.8，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權光刻系統和方法是由李泳福;鄭文豪設計研發完成，并于2021-05-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本光刻系統和方法在說明書摘要公布了：本公開涉及光刻系統和方法。一種光刻曝光系統包括：光源；襯底臺；以及掩模臺，沿著從光源到襯底臺的光路，在光源和襯底臺之間。該光刻曝光系統還包括沿著光路的反射器。該反射器包括：第一層，具有第一材料和第一厚度；第二層具有第一材料和不同于第一厚度的第二厚度；以及第三層，位于第一層和第二層之間，并具有不同于第一材料的第二材料。
本發明授權光刻系統和方法在權利要求書中公布了：1.一種光刻曝光系統，包括： 光源； 襯底臺； 掩模臺，沿著從所述光源到所述襯底臺的光路在所述光源和所述襯底臺之間；以及 反射器，沿著所述光路，所述反射器包括： 多個第一材料層，其中，所述第一材料層包括鉬； 多個第二材料層，其中，所述第二材料層包括硅； 多個第三材料層，其中，所述第三材料層包括釕； 多個第四材料層，其中，所述第四材料層包括鍶； 其中，所述第一材料層、所述第二材料層、所述第三材料層和所述第四材料層的位置、材料和厚度是非周期性的并且是非交替的。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人臺灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹市；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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