中國科學院物理研究所曹立新獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院物理研究所申請的專利微納加工系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114975161B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110208646.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權微納加工系統是由曹立新;王瑞;黃忠學;陳浩鋒;楊鑫設計研發完成，并于2021-02-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本微納加工系統在說明書摘要公布了：本發明提供一種微納加工系統，其包括：化學試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元以及氣體凈化單元；其中，所述化學試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過樣品轉移通道連通；所述氣體凈化單元與所述化學試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過氣體循環通道氣密性連通，以使得所述微納加工系統構成氣體循環回路；所述刻蝕單元包括通過真空閘板閥密封連通的離子束刻蝕準備單元和離子束刻蝕單元；所述微納加工系統還包括用于樣品進入和離開所述微納加工系統的樣品進出管道。本發明的微納加工系統具有成本節約、易于維護和操作簡單的特點，尤其適用于對氧氣、水汽敏感的材料的微納加工。
本發明授權微納加工系統在權利要求書中公布了：1.一種微納加工系統，其包括： 化學試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元以及氣體凈化單元；其中， 所述化學試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過樣品轉移通道連通；所述氣體凈化單元與所述化學試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過氣體循環通道氣密性連通，以使得所述微納加工系統構成氣體循環回路；所述刻蝕單元包括通過真空閘板閥密封連通的離子束刻蝕準備單元和離子束刻蝕單元； 所述微納加工系統還包括用于樣品進入和離開所述微納加工系統的樣品進出管道； 所述樣品進出管道的兩側設有密封閥門； 所述樣品轉移通道的兩端設有密封閥門； 所述氣體循環通道上設有氧氣含量探頭、水汽含量探頭和氣體壓力探頭； 所述氣體凈化單元包括氣體凈化箱體和置于其內的風機、有機氣體凈化柱和氧水凈化柱。
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