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龍圖騰網獲悉深圳市卓興半導體科技有限公司申請的專利一種高度測量方法、裝置及固晶裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114300373B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111629768.1，技術領域涉及：H01L21/66；該發明授權一種高度測量方法、裝置及固晶裝置是由曾逸;鄧應鋮設計研發完成，并于2021-12-28向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高度測量方法、裝置及固晶裝置在說明書摘要公布了：本發明提供了一種高度測量方法、裝置及固晶裝置，該高度測量方法包括如下步驟：測量圖像測量裝置距離固晶平臺的初始高度時的光斑寬度L；把固晶平臺上升H的高度，這個高度為固晶工作時的高度，通過圖像測量裝置測量固晶平臺上兩個光斑之間的初始距離L1；光斑距離測量步驟：任意時刻，通過圖像測量裝置測量基板上左光斑和右光斑之間的距離L2；高度偏差計算步驟：任意時刻，基板高度相對于固晶平臺的高度偏差為Δh，Δh=H*|（L1?L2）（L?L1）|。本發明的有益效果是：本發明通過二束交叉光源打在基板上形成兩個點光斑，用圖像測量裝置測量兩個光斑的距離，形成了一個與該距離對應的基準高度；通過比較和測量不同的光斑距離，可計算獲得對應不同的基板高度或對應平整度。

本發明授權一種高度測量方法、裝置及固晶裝置在權利要求書中公布了：1.一種高度測量方法，其特征在于，包括如下步驟： 初始高度測量步驟：測量圖像測量裝置1距離固晶平臺7的初始高度時的光斑寬度L； 移動固晶平臺7的高度H，此時高度為固晶平臺7的工作高度，左光源3和右光源2發出光，在固晶平臺7上形成兩個光斑，通過圖像測量裝置1測量固晶平臺7上兩個光斑之間的初始距離L1； 光斑距離測量步驟：左光源3和右光源2發出光，在基板4上形成左光斑5和右光斑6，任意時刻，通過圖像測量裝置1測量基板4上左光斑5和右光斑6之間的距離L2； 高度偏差計算步驟：任意時刻，基板4高度相對于固晶平臺7的高度偏差為Δh，Δh＝H*|L1-L2L-L1|； 所述左光源3和所述右光源2發出激光或者紅光； 所述圖像測量裝置1包括相機和計算模塊。

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