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龍圖騰網(wǎng)獲悉深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利氣浮裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114153129B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-02發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111521306.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/38；該發(fā)明授權(quán)氣浮裝置是由鄧皓設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-12-13向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本氣浮裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種氣浮裝置，所述氣浮裝置通過在板體表面開設(shè)氣流通道，控制氣流通道的出氣端的出氣壓力接近，即任意兩個(gè)所述氣流通道的出氣端的出氣壓力的差值的絕對(duì)值為0～1Mpa，從而在板體上方形成一個(gè)由多個(gè)氣柱組成的氣浮式氣墊，基體可放置于氣浮式氣墊上，通過氣流通道的出氣進(jìn)行加熱，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)基體的均勻加熱，避免因加熱不均勻?qū)е碌幕w上光阻膜層的膜厚差異。

本發(fā)明授權(quán)氣浮裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種氣浮裝置，其特征在于，包括： 板體，表面開設(shè)有多個(gè)貫通所述板體的氣流通道，所述氣流通道的一端為進(jìn)氣端，所述氣流通道的另一端為出氣端；以及 至少一個(gè)氣源，多個(gè)所述氣流通道的所述進(jìn)氣端分別與所述氣源的供氣端連接，所述氣源用于向所述氣流通道供氣，所述氣流通道內(nèi)的氣流由所述出氣端排出并形成氣柱； 其中，任意兩個(gè)所述氣流通道的出氣端的出氣壓力的差值的絕對(duì)值為0~1Mpa； 所述板體兩端外側(cè)分別設(shè)置有一支撐件； 所述支撐件的一端位于與所述氣流通道的出氣端相對(duì)應(yīng)的所述板體表面所在平面的上方； 所述板體包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面，所述第一表面與所述氣流通道的所述進(jìn)氣端相對(duì)應(yīng)，所述第二表面與所述氣流通道的出氣端相對(duì)應(yīng)； 所述支撐件包括沿所述氣流通道內(nèi)氣流流向設(shè)置的第一部分以及連接于所述第一部分一端的第二部分； 所述第二部分遠(yuǎn)離所述第一部分一端延伸至與所述第二表面上方，所述支撐件與多個(gè)所述氣柱形成的氣墊配合，以支撐基體。

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